將各類膠液滴注于高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴在基片上的膠液通過離心力在基片上均勻地涂覆的設(shè)備，被叫做勻膠機。溶膠的黏度以及勻膠機的轉(zhuǎn)速對于膜的厚度起到?jīng)Q定性作用。

勻膠機境控制

能夠用于涂覆的基底材料有許多，然而如ITO玻璃的一英寸見方的玻璃基底為應(yīng)用的zui多的基底，其在實驗室用的載玻片甩膠前取得。膠液應(yīng)當(dāng)通過過濾來將雜質(zhì)去除，過濾器的規(guī)格一般使用0.45微米。一般需要注意在超凈間(10級或100級)中進行旋涂，在通風(fēng)櫥里進行大部分的旋涂，在旋轉(zhuǎn)托盤上放置載玻片，膠液利用注射器滴管滴下。通常包括兩個轉(zhuǎn)速范圍。di一個階段，轉(zhuǎn)速在500-1000RPM范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)5-10秒鐘，從而使得膠液被平鋪開，而第二階段的速度變化主要用來控制液厚度，1500RPM-6000RPM為平常的轉(zhuǎn)速范圍，旋轉(zhuǎn)時長由幾秒鐘到幾分鐘,這樣就能夠使得幾百個納米到數(shù)十個微米之間的均勻薄膜獲得。

一旦旋涂結(jié)束以后，載玻片一般往一個制模加熱板上迅速的放置（通常能夠加熱到大約400攝氏度），在幾秒鐘或幾分鐘以內(nèi)使溶劑的蒸發(fā)以及薄膜的固化得以實現(xiàn)。甚至需要烘烤載玻片幾個小時或者一個晚上,在烤箱或真空爐在溫度高到能夠?qū)⒂嘞碌娜軇┏浞终舭l(fā)掉，盡管無需往培養(yǎng)皿中放入，然而可以利用一兩個烘烤步驟來對薄膜進行保護從而使其遠離灰塵,以及溶劑冷卻對薄膜平滑度和質(zhì)量的影響,半開著烘烤的蓋板，為順利蒸發(fā)掉溶劑提供方便。

勻膠機技術(shù)參數(shù)

電機功率:40W

LED數(shù)字顯示

轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度:±1%

膠的均勻性:±3%

真空泵抽氣速率:60升/分

儀器尺寸:210×220×160mm

調(diào)速范圍:

 I檔調(diào)速范圍:500-2000轉(zhuǎn)/分

II檔調(diào)速范圍:1300-8000轉(zhuǎn)/分

勻膠時間:

 I檔勻膠時間:2-18秒

II檔勻膠時間:3-60秒

適用:中5-中100mm硅片及其它材料等勻膠