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適合電子半導(dǎo)體研究的AFM-SEM原子力掃描電鏡一體機(jī)
適合二維材料研究的AFM-SEM原子力掃描電鏡一體機(jī)
「新」AFM-SEM原子力掃描電鏡一體機(jī)
「新」AFM-SEM原子力掃描電鏡一體機(jī)
鋰電清潔度行業(yè)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)|ParticleX Battery 全自動(dòng)鋰電清潔度分析整體方案
適合電子半導(dǎo)體研究的AFM-SEM原子力掃描電鏡一體機(jī)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
全新發(fā)布的 AFM-in-Phenom XL 結(jié)合了掃描電子顯微鏡 (SEM) 和原子力顯微鏡 (AFM) 的優(yōu)勢(shì),實(shí)現(xiàn)了在同一系統(tǒng)中對(duì)樣品進(jìn)行多模態(tài)(SEM 及 AFM 形貌、元素、機(jī)械、電學(xué)、磁學(xué))關(guān)聯(lián)分析。
· 設(shè)備掃描范圍(開(kāi)環(huán)):100μm×100μm×20μm
· 設(shè)備掃描范圍(閉環(huán)):80μm×80μm×16μm
· 分辨率:0.2nm×0.2nm×0.04nm
· 樣品尺寸:21mm×11mm×8mm
· 樣品重量:100g
· 成像模式:表面形貌和粗糙度、CAFM、KPFM、FMM、PFM、EFM、F-z curves、I-V curves等

應(yīng)用案例:半導(dǎo)體材料-二硫化鉬(MoS2)
硫化鉬(MoS2)是一種 2D 層狀 TMDCs,適合作為地球上豐富的催化劑或先進(jìn)電子設(shè)備中的 2D 半導(dǎo)體。需要充分理解這些單層的制造條件,以確??煽亢涂芍貜?fù)的屬性,如靈活性、獨(dú)特的電性或機(jī)械屬性。

我們展示了 AFM-in-SEM 解決方案,用于精確和復(fù)雜分析通過(guò) CVD 在厚 SiO2/Si 上生長(zhǎng)的 MoS2 薄片。所有技術(shù)——SEM、AFM、EFM和相位成像——都在兩組不同制造條件下的樣本上同時(shí)測(cè)量。這種方法可以比較結(jié)果,以確定最佳的制造參數(shù),以實(shí)現(xiàn)所需的樣本特性。使用 AFM 地形、SEM、EFM 和相位成像對(duì) MoS2 進(jìn)行復(fù)雜表征。
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)559次SEM-AFM聯(lián)用
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)443次SEM-AFM聯(lián)用
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)459次SEM-AFM聯(lián)用
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)559次SEM-AFM聯(lián)用
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)332次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):¥168
已咨詢(xún)250次掃描電鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)7182次
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)974次表面成像
報(bào)價(jià):面議
已咨詢(xún)593次掃描電鏡
GAIA 超分辨率點(diǎn)重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal.nl 推出的旗艦超分辨率共聚焦模塊,得益于專(zhuān)利的 REscan(重掃描技術(shù)),GAIA 超分辨率點(diǎn)重掃共聚焦顯微鏡僅需幾納瓦的功率即可實(shí)現(xiàn)超越衍射極限的深度成像。 1. 超分辨率成像:得益于專(zhuān)利的 REscan 技術(shù),GAIA 超分辨率的實(shí)時(shí)分辨率可達(dá) 170 nm,解卷積后可達(dá) 120 nm。 2. 可變針孔:搭配 6 個(gè)電動(dòng)可變針孔,使得設(shè)備在各種物鏡下均可達(dá)到完美共焦 3. 成像溫和:僅需幾納瓦的功率即可實(shí)現(xiàn)超越衍射極限的深度成像,成像溫和,適合長(zhǎng)時(shí)間活細(xì)胞超分辨率成像。
1. 深層成像:無(wú)針孔串?dāng)_現(xiàn)象,更適合于深度成像,最高可達(dá) 900 μm 2. 超快成像:采用狹縫針孔的線性掃描,擁有媲美轉(zhuǎn)盤(pán)式共聚焦的掃描速度(>100 fps @ 3Kx3K) 3. 超大視場(chǎng):遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)共聚焦的視場(chǎng)大小,最大支持 FN29 4. 可變針孔:唯一擁有 6 個(gè)電動(dòng)可變針孔的高速共聚焦系統(tǒng),針孔在各種物鏡下均可達(dá)到完美共焦 5. 低光毒性:更低的光毒性和光損傷,適合長(zhǎng)時(shí)間的活體成像
NL5+ 深層高速線重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal NL 推出的首款線重掃共聚焦模塊,采用狹縫針孔和 REscan(重掃描技術(shù)),擁有媲美轉(zhuǎn)盤(pán)式共聚焦的掃描速度,且圖片質(zhì)量更好,成像深度更深,適用于高速、深層的 3D 成像,并顯著降低光毒性和光漂白。 1. 深層成像:無(wú)針孔串?dāng)_現(xiàn)象,更適合于深度成像 2. 超快成像:75 fps@2048x512 px,55 fps@2048x2048 px 3. 低光毒性:更低的光毒性和光損傷,適合長(zhǎng)時(shí)間的活體成像
ICSPI REDUX 原子力顯微鏡是一款基于芯片化技術(shù)(AFM-on-a-chip)的臺(tái)式納米表征設(shè)備,集高自動(dòng)化、快速掃描與易操作性于一體。系統(tǒng)無(wú)需復(fù)雜光學(xué)調(diào)節(jié)與激光對(duì)準(zhǔn),即可實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)分辨率的三維形貌成像與定量分析,廣泛適用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、生命科學(xué)及教學(xué)實(shí)驗(yàn)等場(chǎng)景。
nGauge AFM 是由 ICSPI 開(kāi)發(fā)的一款芯片式原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope, AFM)。該系統(tǒng)基于專(zhuān)利 CMOS-MEMS 技術(shù),將傳統(tǒng) AFM 的掃描器、傳感器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)全部集成在一塊微型 MEMS 芯片上,實(shí)現(xiàn)了真正的小型化、自動(dòng)化和便捷化的納米級(jí)測(cè)量解決方案。
ParticleX Battery 鋰電清潔度分析系統(tǒng)是一款面向鋰離子電池材料與制造環(huán)節(jié)的全自動(dòng)清潔度檢測(cè)設(shè)備。系統(tǒng)基于 SEM 與 EDS 技術(shù),可自動(dòng)識(shí)別并定量分析正負(fù)極材料中的金屬、磁性雜質(zhì)顆粒,幫助精準(zhǔn)溯源雜質(zhì)來(lái)源,降低安全與一致性風(fēng)險(xiǎn)。系統(tǒng)支持無(wú)人值守運(yùn)行,采用 3000 小時(shí)長(zhǎng)壽命 CeB6 晶體燈絲與高通量設(shè)計(jì),兼顧效率與穩(wěn)定性,并已與鋰電龍頭企業(yè)共建清潔度檢測(cè)方法與評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn),支持上下游統(tǒng)一對(duì)標(biāo)與質(zhì)量控制。
Phenom Pure 標(biāo)準(zhǔn)版是一款專(zhuān)為高分辨率成像設(shè)計(jì)的智能臺(tái)式掃描電鏡,采用獨(dú)家 CeB? 長(zhǎng)壽命燈絲,分辨率優(yōu)于 10 nm,具備 15 秒抽真空、30 秒成像的行業(yè)領(lǐng)先速度。設(shè)備支持升級(jí)至 Phenom Pro/ProX,可擴(kuò)展至二次電子探測(cè)和能譜分析。憑借自動(dòng)化硬件平臺(tái)、直覺(jué)式操作界面、防震防磁設(shè)計(jì)與極低的安裝要求,任何人都可在 30 分鐘內(nèi)上手使用。Phenom Pure 以高成像質(zhì)量、極致易用性和卓越穩(wěn)定性,成為科研、教學(xué)及工業(yè)質(zhì)控中最佳性?xún)r(jià)比的臺(tái)式掃描電鏡選擇。
為質(zhì)控與研發(fā)打造的自動(dòng)化臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL G3 是 Thermo Scientific 旗下的旗艦級(jí)臺(tái)式掃描電鏡平臺(tái),基于飛利浦—FEI—賽默飛近 80 年電鏡技術(shù)積淀打造。其穩(wěn)定可靠、易部署、自動(dòng)化程度高,專(zhuān)為 生產(chǎn)質(zhì)控、高通量檢測(cè)與研發(fā)場(chǎng)景 而設(shè)計(jì)。 大倉(cāng)室設(shè)計(jì),可容納 36 個(gè)樣品,1 分鐘完成裝樣到出圖,自動(dòng)化、AI 分析、能譜一體化,3000h CeB6 燈絲,平均 5 年更換一次,適用于金屬、電子陶瓷、半導(dǎo)體、粉末、濾膜、電池材料等多行業(yè)。