NL5+ 深層高速線重掃共聚焦顯微鏡
飛納臺式掃描電鏡 | 工業(yè) 4.0 自動化與高通量質控解決方案
飛納 清潔度分析 ParticleX AC
國產(chǎn)型號飛納臺式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL
DENS Stream 原位液相加熱/加電樣品桿
一、品牌介紹
Confocal.nl 成立于 2016 年，總部位于荷蘭阿姆斯特丹，是一家專注于共聚焦成像解決方案的高科技公司。依托 Erik Manders 團隊開創(chuàng)的革命性重掃描共聚焦技術（Rescan Confocal Microscopy），為研究人員帶來無與倫比的成像體驗。憑借顛覆性的技術與出色的成像體驗，Confocal.nl 的產(chǎn)品現(xiàn)已贏得超過 100 家頂尖成像設施與研究機構的信賴。其產(chǎn)品是一種采用模塊化設計的激光掃描共聚焦系統(tǒng)，該模塊可用于將寬場顯微鏡升級為共聚焦顯微鏡，可根據(jù)客戶的現(xiàn)有配置和需求進行靈活定制（無升級需求也可以整套購買）。
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二、產(chǎn)品簡介
NL5+ 深層高速線重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal NL 推出的第一款線重掃共聚焦模塊，采用狹縫針孔和 REscan（重掃描技術），擁有媲美轉盤式共聚焦的掃描速度，且圖片質量更好，成像深度更深，適用于高速、深層的 3D 成像，并顯著降低光毒性和光漂白。
三、產(chǎn)品特點
四、產(chǎn)品參數(shù)
| NL5+ | |
| FOV | 18 mm（FN 18）；330x330 μm（40x 物鏡） |
| 實時分辨率 | 240 nm（解卷積 170 nm） |
| 掃描速度 | 75 fps @ 2048x512 px，55 fps @ 2048x2048 px |
| 固定行模式下的速度 | >1000 fps（相機限制） |
| 波長 | 400-700 nm（VIS） |
| 探測器 | sCMOS |
| 探測器靈敏度 | >95% QE |
| 軟件 | Micromanager，如有集成需求，可提供軟件開發(fā)工具包 |
| 解卷積 | Microvolution（實時）; SVI Huygens（后處理） |
| 模式 | 明場，寬場和共聚焦 |
| 寬場/共聚焦切換 | 電動 |
| 發(fā)射濾光片 | 6 |
| 重量 | 4.5 kg |
報價：面議
已咨詢31次激光共聚焦顯微鏡
報價：面議
已咨詢164次三維顯微鏡
報價：面議
已咨詢4212次拉曼光譜儀
報價：面議
已咨詢2572次共聚焦顯微鏡
報價：面議
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報價：面議
已咨詢6013次拉曼光譜儀
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報價：面議
已咨詢4776次共聚焦顯微鏡
NL5+ 深層高速線重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal NL 推出的首款線重掃共聚焦模塊，采用狹縫針孔和 REscan（重掃描技術），擁有媲美轉盤式共聚焦的掃描速度，且圖片質量更好，成像深度更深，適用于高速、深層的 3D 成像，并顯著降低光毒性和光漂白。 1. 深層成像：無針孔串擾現(xiàn)象，更適合于深度成像 2. 超快成像：75 fps@2048x512 px，55 fps@2048x2048 px 3. 低光毒性：更低的光毒性和光損傷，適合長時間的活體成像
ICSPI REDUX 原子力顯微鏡是一款基于芯片化技術（AFM-on-a-chip）的臺式納米表征設備，集高自動化、快速掃描與易操作性于一體。系統(tǒng)無需復雜光學調節(jié)與激光對準，即可實現(xiàn)亞納米級分辨率的三維形貌成像與定量分析，廣泛適用于材料科學、半導體、生命科學及教學實驗等場景。
nGauge AFM 是由 ICSPI 開發(fā)的一款芯片式原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope, AFM）。該系統(tǒng)基于專利 CMOS-MEMS 技術，將傳統(tǒng) AFM 的掃描器、傳感器和執(zhí)行機構全部集成在一塊微型 MEMS 芯片上，實現(xiàn)了真正的小型化、自動化和便捷化的納米級測量解決方案。
ParticleX Battery 鋰電清潔度分析系統(tǒng)是一款面向鋰離子電池材料與制造環(huán)節(jié)的全自動清潔度檢測設備。系統(tǒng)基于 SEM 與 EDS 技術，可自動識別并定量分析正負極材料中的金屬、磁性雜質顆粒，幫助精準溯源雜質來源，降低安全與一致性風險。系統(tǒng)支持無人值守運行，采用 3000 小時長壽命 CeB6 晶體燈絲與高通量設計，兼顧效率與穩(wěn)定性，并已與鋰電龍頭企業(yè)共建清潔度檢測方法與評價標準，支持上下游統(tǒng)一對標與質量控制。
Phenom Pure 標準版是一款專為高分辨率成像設計的智能臺式掃描電鏡，采用獨家 CeB? 長壽命燈絲，分辨率優(yōu)于 10 nm，具備 15 秒抽真空、30 秒成像的行業(yè)領先速度。設備支持升級至 Phenom Pro/ProX，可擴展至二次電子探測和能譜分析。憑借自動化硬件平臺、直覺式操作界面、防震防磁設計與極低的安裝要求，任何人都可在 30 分鐘內上手使用。Phenom Pure 以高成像質量、極致易用性和卓越穩(wěn)定性，成為科研、教學及工業(yè)質控中最佳性價比的臺式掃描電鏡選擇。
為質控與研發(fā)打造的自動化臺式掃描電鏡 Phenom XL G3 是 Thermo Scientific 旗下的旗艦級臺式掃描電鏡平臺，基于飛利浦—FEI—賽默飛近 80 年電鏡技術積淀打造。其穩(wěn)定可靠、易部署、自動化程度高，專為 生產(chǎn)質控、高通量檢測與研發(fā)場景 而設計。 大倉室設計，可容納 36 個樣品，1 分鐘完成裝樣到出圖，自動化、AI 分析、能譜一體化，3000h CeB6 燈絲，平均 5 年更換一次，適用于金屬、電子陶瓷、半導體、粉末、濾膜、電池材料等多行業(yè)。
Phenom Pharos G2 是荷蘭飛納推出的第二代 肖特基場發(fā)射電子源臺式掃描電鏡（桌面場發(fā)射 SEM）。設備集 背散射電子成像（BSE）+ 二次電子成像（SE）+ 集成能譜分析（EDS） 于一體，實現(xiàn)科研級微觀表征的高分辨率、高效率與全自動化。
ATLANT 3D 推出了直接原子層加工（Direct Atomic Layer Processing，DALP?）技術——全球首個能實現(xiàn)原子級精度、無掩模直接寫入、多材料原位加工的平臺。DALP? 是一種基于專利微噴嘴系統(tǒng)的原子級加工平臺，可實現(xiàn)選擇性沉積、蝕刻、摻雜與表面改性，并以軟件方式實現(xiàn)高精度實時控制。與傳統(tǒng) ALD “全表面沉積 + 光刻 + 蝕刻”的流程不同，DALP? 讓材料只在需要的位置沉積，真正實現(xiàn)“按需制造”。
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