飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pure 高性價(jià)比標(biāo)準(zhǔn)版
國產(chǎn)型號(hào)飛納臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版 Phenom XL
國產(chǎn)型號(hào)飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)
飛納手套箱版掃描電鏡
新！國產(chǎn)型號(hào)飛納掃描電鏡
Phenom GSR 槍擊殘留物分析
在槍支犯罪事件中，槍擊殘留物 GSR 的分析將發(fā)揮重要的作用。GSR 分析技術(shù)首先基于掃描電子顯微鏡 （SEM） 的背散射成像，用來掃描樣品和發(fā)現(xiàn)可疑的 “GSR” 顆粒。一旦發(fā)現(xiàn)可疑的顆粒，使用能譜（EDS）識(shí)別在該粒子中的元素。最常見的搜索元素為 Pb，Sb 和 Ba。無鉛dihuo的檢測(cè)，例如 Ti 和 Zn 也可最為搜索條件進(jìn)行搜索。
Phenom GSR 飛納臺(tái)式掃描電鏡自動(dòng)槍擊殘留物分析是全球shou創(chuàng)在臺(tái)式掃描電鏡運(yùn)行自動(dòng)槍擊殘留物分析軟件。其設(shè)計(jì)基于飛納臺(tái)式掃描電鏡大樣品室zhuo越版 Phenom XL。軟件和硬件完全一體化，以提高用戶操作界面友好性，可靠性和分析速度。Phenom GSR 包括以下三個(gè)項(xiàng)目：自動(dòng)槍擊殘留物分析和分類軟件包，BSED 和 EDS 探頭內(nèi)部集成，校準(zhǔn)試樣。
Phenom GSR 飛納臺(tái)式掃描電鏡自動(dòng)槍擊殘留物分析配備 CeB6 燈絲，使其穩(wěn)定運(yùn)行，燈絲壽命不低于 1500 個(gè)小時(shí)，從可用性，適用性和運(yùn)行時(shí)間的角度來看都非常理想。小于 1 分鐘的加載時(shí)間，和快速的全自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)，使得飛納 GSR 成為高度自動(dòng)化應(yīng)用的理想工具，可以用來進(jìn)行自動(dòng)槍擊殘留物分析。
Phenom GSR 規(guī)格參數(shù)
| 光學(xué)放大 | 3 - 16 X |
| 電子光學(xué)放大 | 80 - 200,000 X |
| 分辨率 | 優(yōu)于 10 nm |
| 數(shù)字放大 | Max. 12 X |
| 光學(xué)導(dǎo)航相機(jī) | 彩色 |
| 加速電壓 | 4.8 Kv - 20.5 Kv 連續(xù)可調(diào) |
| 真空模式 | 高分辨率模式 降低核電效應(yīng)模式 高真空模式 |
| 探測(cè)器 | 背散射電子探測(cè)器 二次電子探測(cè)器 (選配) |
| 樣品尺寸 | zui大 100 mm X 100 mm 可同時(shí)裝載 36 個(gè) 0.5 英寸樣品臺(tái) |
| 樣品高度 | zui高 65 mm，樣品高度全自動(dòng)調(diào)節(jié) |
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢3122次CeB6燈絲掃描電鏡
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢3623次全自動(dòng)清潔度分析
報(bào)價(jià)：￥457
已咨詢138次Sigma-Aldrich西格瑪試劑標(biāo)物
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢5423次CeB6燈絲掃描電鏡
報(bào)價(jià)：￥839
已咨詢153次Sigma-Aldrich西格瑪試劑標(biāo)物
報(bào)價(jià)：￥839
已咨詢162次Sigma-Aldrich西格瑪試劑標(biāo)物
報(bào)價(jià)：￥639
已咨詢139次Sigma-Aldrich西格瑪試劑標(biāo)物
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢3675次場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
GAIA 超分辨率點(diǎn)重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal.nl 推出的旗艦超分辨率共聚焦模塊，得益于專利的 REscan（重掃描技術(shù)），GAIA 超分辨率點(diǎn)重掃共聚焦顯微鏡僅需幾納瓦的功率即可實(shí)現(xiàn)超越衍射極限的深度成像。 1. 超分辨率成像：得益于專利的 REscan 技術(shù)，GAIA 超分辨率的實(shí)時(shí)分辨率可達(dá) 170 nm，解卷積后可達(dá) 120 nm。 2. 可變針孔：搭配 6 個(gè)電動(dòng)可變針孔，使得設(shè)備在各種物鏡下均可達(dá)到完美共焦 3. 成像溫和：僅需幾納瓦的功率即可實(shí)現(xiàn)超越衍射極限的深度成像，成像溫和，適合長(zhǎng)時(shí)間活細(xì)胞超分辨率成像。
1. 深層成像：無針孔串?dāng)_現(xiàn)象，更適合于深度成像，最高可達(dá) 900 μm 2. 超快成像：采用狹縫針孔的線性掃描，擁有媲美轉(zhuǎn)盤式共聚焦的掃描速度（>100 fps @ 3Kx3K） 3. 超大視場(chǎng)：遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)共聚焦的視場(chǎng)大小，最大支持 FN29 4. 可變針孔：唯一擁有 6 個(gè)電動(dòng)可變針孔的高速共聚焦系統(tǒng)，針孔在各種物鏡下均可達(dá)到完美共焦 5. 低光毒性：更低的光毒性和光損傷，適合長(zhǎng)時(shí)間的活體成像
NL5+ 深層高速線重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal NL 推出的首款線重掃共聚焦模塊，采用狹縫針孔和 REscan（重掃描技術(shù)），擁有媲美轉(zhuǎn)盤式共聚焦的掃描速度，且圖片質(zhì)量更好，成像深度更深，適用于高速、深層的 3D 成像，并顯著降低光毒性和光漂白。 1. 深層成像：無針孔串?dāng)_現(xiàn)象，更適合于深度成像 2. 超快成像：75 fps@2048x512 px，55 fps@2048x2048 px 3. 低光毒性：更低的光毒性和光損傷，適合長(zhǎng)時(shí)間的活體成像
ICSPI REDUX 原子力顯微鏡是一款基于芯片化技術(shù)（AFM-on-a-chip）的臺(tái)式納米表征設(shè)備，集高自動(dòng)化、快速掃描與易操作性于一體。系統(tǒng)無需復(fù)雜光學(xué)調(diào)節(jié)與激光對(duì)準(zhǔn)，即可實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)分辨率的三維形貌成像與定量分析，廣泛適用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、生命科學(xué)及教學(xué)實(shí)驗(yàn)等場(chǎng)景。
nGauge AFM 是由 ICSPI 開發(fā)的一款芯片式原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope, AFM）。該系統(tǒng)基于專利 CMOS-MEMS 技術(shù)，將傳統(tǒng) AFM 的掃描器、傳感器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)全部集成在一塊微型 MEMS 芯片上，實(shí)現(xiàn)了真正的小型化、自動(dòng)化和便捷化的納米級(jí)測(cè)量解決方案。
ParticleX Battery 鋰電清潔度分析系統(tǒng)是一款面向鋰離子電池材料與制造環(huán)節(jié)的全自動(dòng)清潔度檢測(cè)設(shè)備。系統(tǒng)基于 SEM 與 EDS 技術(shù)，可自動(dòng)識(shí)別并定量分析正負(fù)極材料中的金屬、磁性雜質(zhì)顆粒，幫助精準(zhǔn)溯源雜質(zhì)來源，降低安全與一致性風(fēng)險(xiǎn)。系統(tǒng)支持無人值守運(yùn)行，采用 3000 小時(shí)長(zhǎng)壽命 CeB6 晶體燈絲與高通量設(shè)計(jì)，兼顧效率與穩(wěn)定性，并已與鋰電龍頭企業(yè)共建清潔度檢測(cè)方法與評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)，支持上下游統(tǒng)一對(duì)標(biāo)與質(zhì)量控制。
Phenom Pure 標(biāo)準(zhǔn)版是一款專為高分辨率成像設(shè)計(jì)的智能臺(tái)式掃描電鏡，采用獨(dú)家 CeB? 長(zhǎng)壽命燈絲，分辨率優(yōu)于 10 nm，具備 15 秒抽真空、30 秒成像的行業(yè)領(lǐng)先速度。設(shè)備支持升級(jí)至 Phenom Pro/ProX，可擴(kuò)展至二次電子探測(cè)和能譜分析。憑借自動(dòng)化硬件平臺(tái)、直覺式操作界面、防震防磁設(shè)計(jì)與極低的安裝要求，任何人都可在 30 分鐘內(nèi)上手使用。Phenom Pure 以高成像質(zhì)量、極致易用性和卓越穩(wěn)定性，成為科研、教學(xué)及工業(yè)質(zhì)控中最佳性價(jià)比的臺(tái)式掃描電鏡選擇。
為質(zhì)控與研發(fā)打造的自動(dòng)化臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL G3 是 Thermo Scientific 旗下的旗艦級(jí)臺(tái)式掃描電鏡平臺(tái)，基于飛利浦—FEI—賽默飛近 80 年電鏡技術(shù)積淀打造。其穩(wěn)定可靠、易部署、自動(dòng)化程度高，專為 生產(chǎn)質(zhì)控、高通量檢測(cè)與研發(fā)場(chǎng)景 而設(shè)計(jì)。 大倉室設(shè)計(jì)，可容納 36 個(gè)樣品，1 分鐘完成裝樣到出圖，自動(dòng)化、AI 分析、能譜一體化，3000h CeB6 燈絲，平均 5 年更換一次，適用于金屬、電子陶瓷、半導(dǎo)體、粉末、濾膜、電池材料等多行業(yè)。
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