德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 192T
德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 182
伯東公司德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 142
德國普發(fā)Pfeiffer 多功能 氦質(zhì)譜檢漏儀ASM 340
氦質(zhì)譜檢漏儀流量計(jì)檢漏|伯東Pfeiffer
氦質(zhì)譜檢漏儀光刻機(jī)檢漏
上海伯東客戶日本某生產(chǎn)半導(dǎo)體用光刻機(jī)公司, 光刻機(jī)真空度需要達(dá)到 1x10-11 pa 的超高真空, 因?yàn)樵O(shè)備整體較大, 需要對構(gòu)成光刻機(jī)的真空相關(guān)部件進(jìn)行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進(jìn)行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310.
光刻機(jī)檢漏方法: 采用真空模式檢漏, 漏率值設(shè)定為 1x10-11pa m3/s.
1. 通過波紋管與光刻機(jī)真空系統(tǒng)連接
2. 使用噴槍, 噴掃管路, 腔體焊縫, 接頭等部位, 如果存在超過設(shè)定漏率值的狹縫, 檢漏儀會時(shí)時(shí)發(fā)出聲光報(bào)警, 同時(shí)在屏幕上顯示漏率值.
便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 主要技術(shù)參數(shù):
對氦氣的最 小檢測漏率 | 真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸槍 模式 1E-8 Pa m3/s |
檢測模式 | 真空模式和吸槍 模式 |
氦質(zhì)譜檢漏儀無油前級泵抽速 | 1.7 m3/h |
檢測氣體 | 4He , 3He, H2 |
響應(yīng)時(shí)間 | <1s |
對氦氣的抽氣速度 | 1.1 l/s |
氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)氣法蘭 | DN 25 ISO-KF |
進(jìn)氣口最 大壓力 | 15 hPa |
通訊接口 | RS-232 |
工作溫度 | 10-40 °C |
噪音水平 | < 45 dB (A) |
尺寸 | 350 X 245 X 141 mm |
重量 | 21 kg (46 lb) |
鑒于信息保密, 若您需要進(jìn)一步的了解光刻機(jī)檢漏, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 賈小姐 101
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上海伯東氦質(zhì)譜檢漏儀光刻機(jī)檢漏 ASM 310
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主要優(yōu)勢 ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 主要優(yōu)點(diǎn): 1.集成無油真空系統(tǒng):隔膜泵 MVP 020 1.7 m3/h 粗抽能力 + ATH 系列渦輪分子泵 2.氦氣抽速 1.1l/s 3.進(jìn)氣口壓力 15 hPa 4.大尺寸高亮彩色觸摸屏 5.便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 重量僅 21 Kg 6.豐富的可選配件,如吸槍、遙控器、小推車、標(biāo)準(zhǔn)漏孔等 7.帶有可伸縮手柄的靈巧設(shè)計(jì) 8.可以在任何位置操作:水平或垂直 9.可拆卸式操作面板,帶有用于在金屬底板上定位的磁鐵
聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)(polymer pen lithography)聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列,采用蘸筆光刻DPN的方式,將待沉積的材料(墨水)浸蘸在筆尖陣列上,筆尖可控的與基底表面接觸,從而在基底表面批量成型所需圖案,加工納米微米圖案無需光掩膜,且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率,可應(yīng)用于納米粒子合成,蛋白陣列,單細(xì)胞排布,納米電路構(gòu)造、生物芯片、化學(xué)檢測、微尺度催化反應(yīng)、分子馬達(dá)等領(lǐng)域。此設(shè)備在國際上屬于基于聚合物筆光刻(PPL)技術(shù)的納米制造系統(tǒng),PPL技術(shù)是美國Tera-print公司獨(dú)有的技術(shù)。
多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統(tǒng)可以支持多種相關(guān)的UV工藝:SmartNIL,晶圓級光學(xué)(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個(gè)靈活的工具中
特色:EVG 6200 NT掩模對準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。