德國(guó)普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 192T
德國(guó)普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 182
伯東公司德國(guó)普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 142
德國(guó)普發(fā)Pfeiffer 多功能 氦質(zhì)譜檢漏儀ASM 340
氦質(zhì)譜檢漏儀流量計(jì)檢漏|伯東Pfeiffer

氦質(zhì)譜檢漏儀激光器零件檢漏
上海伯東客戶某生產(chǎn)航天和半導(dǎo)體相關(guān)精密零件公司, 近日通過(guò)伯東推薦, 采購(gòu)移動(dòng)型氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390 主要用于激光器零件檢漏.
激光器零件檢漏: 應(yīng)用于航天的激光器零件, 中空夾層設(shè)計(jì), 僅在兩端焊接密封, 焊縫處漏率要求 < 10-9 Atm.cc/s.
激光器零件檢漏方法: 利用氦質(zhì)譜檢漏儀真空法對(duì)激光器零件進(jìn)行檢漏, 焊縫處漏率要求 < 10-9 Atm.cc/s.
1. 激光器一端密封, 一端通過(guò)訂制夾具和波紋管與氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390 連接
2. 在操作面板設(shè)置真空模式下漏率值, 啟動(dòng)檢漏儀 ASM 390, 在兩端焊縫處噴氦氣, 如果有漏, 檢漏儀聲光報(bào)警并在面板上顯示當(dāng)前漏率值.
移動(dòng)型氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390 漏率值單位提供多種類型
上海伯東德國(guó) Pfeiffer 移動(dòng)型氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390
檢漏儀配有干式非接觸式前級(jí)真空泵和渦輪分子泵 |
鑒于信息保密, 若您需要進(jìn)一步的了解激光器零件檢漏, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 賈小姐 101
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氦質(zhì)譜檢漏儀激光器零件檢漏
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VIM-2 優(yōu)勢(shì): 10 mbar(暖容器)~ 5×10?? mbar(低溫容器) 鋰電池供電(>3 小時(shí)續(xù)航),藍(lán)牙/Win 端遠(yuǎn)程操作 無(wú)電子穿透真空,抗腐蝕(1.4404/1.4034 不銹鋼) <1% 年漂移率,無(wú)需校準(zhǔn) 1s 響應(yīng)(快模式),內(nèi)置 1023 組數(shù)據(jù)記錄 1 個(gè)讀數(shù)頭可匹配多個(gè)傳感器,降低部署成本
超高精度:0.1 mbar至1×10?? mbar范圍內(nèi)達(dá)讀數(shù)±1% 100%線性壓力讀數(shù)(與氣體種類無(wú)關(guān)) 長(zhǎng)期穩(wěn)定性:年漂移率<1.5% 不銹鋼傳感器抗腐蝕與沉積 安全潔凈測(cè)量:無(wú)污染/無(wú)熱輻射/無(wú)電離效應(yīng)
潤(rùn)滑油
伯東公司日本原裝設(shè)計(jì)制造離子蝕刻機(jī) IBE. 提供微米級(jí)刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對(duì)磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料
伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
上海伯東日本原裝進(jìn)口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 內(nèi)部使用美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測(cè)當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
Aston? 特性 實(shí)時(shí)過(guò)程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝 半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺(tái), 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù) 采用等離子體電離源, 無(wú)燈絲, 更耐用 可與大批量生產(chǎn)工具完全集成 Aston? 作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.