儀器網(wǎng)>產(chǎn)品中心>行業(yè)專用儀器>半導(dǎo)體行業(yè)>激光刻蝕機(jī) 更新時(shí)間：2026-04-14 01:46:41

激光刻蝕機(jī)

（共19件相關(guān)產(chǎn)品信息）

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推薦廠商：: 上海岱美儀器

 nanoscribe

產(chǎn)品分類：: 更多光刻機(jī)/臺(tái)式無掩模光刻機(jī) 離子減薄儀等離子體表面處理儀離子濺射儀電子束刻蝕系統(tǒng) 離子束刻蝕系統(tǒng) 激光刻蝕機(jī) 磁控濺射儀/磁控濺射鍍膜儀氣相沉積系統(tǒng) 分子束外延系統(tǒng) 激光濺射沉積系統(tǒng) 原子層沉積系統(tǒng) 勻膠機(jī)

產(chǎn)品產(chǎn)地：: 不限中國(guó)大陸大洋洲歐洲亞洲美洲

廠商性質(zhì)：: 不限自營(yíng) 代理經(jīng)銷

銷售地區(qū)：: 不限售全國(guó) 售本省售本市

產(chǎn)品品牌：

不限
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英國(guó)Durham Magneto Opt

奧地利EVG

日本電子

法國(guó)KLOE

nanoscribe

德國(guó)普發(fā)真空

德國(guó)Raith

瑞士SCIL

收起參數(shù)(產(chǎn)地、種類、應(yīng)用領(lǐng)域)

綜合

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美OAI光刻機(jī)Model 200, 800MBA, 5000, 2000

品牌：美國(guó)OAI 型號(hào)：Model 200, 800MBA, 5000, 2000 產(chǎn)地：美洲美國(guó)

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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小型臺(tái)式無掩膜光刻系統(tǒng)

品牌：英國(guó)Durham Magneto Optic 型號(hào)：Microwriter ML3 產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

廠商：清砥量子科學(xué)儀器（北京）有限公司

簡(jiǎn)介：Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
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臺(tái)式無掩模光刻機(jī)-SHNTI

品牌：SHNTI 型號(hào)：產(chǎn)地：亞洲韓國(guó)

廠商：上海納騰儀器有限公司

簡(jiǎn)介：AIUniBeam”是一種基于Al的光束均勻性補(bǔ)償技術(shù)采用光束輪廓儀進(jìn)行補(bǔ)償。光束輪廓儀測(cè)量每個(gè)像素的強(qiáng)度，然后通過像素控制對(duì)局部強(qiáng)度進(jìn)行補(bǔ)償和優(yōu)化，以滿足98%以上的均勻性。
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EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)

品牌：EVG 型號(hào)：EVG610 產(chǎn)地：歐洲奧地利

廠商：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：納米壓印支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。
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小型臺(tái)式無掩膜光刻系統(tǒng)

品牌：英國(guó)Durham Magneto Optic 型號(hào)：Microwriter ML3 產(chǎn)地：歐洲英國(guó)

廠商：清砥量子科學(xué)儀器（北京）有限公司

簡(jiǎn)介：Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
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Nanoscribe Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻系統(tǒng)

品牌：nanoscribe 型號(hào)：Quantum X align 產(chǎn)地：歐洲德國(guó)

廠商：納糯三維科技（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：高分辨率專利A2PL技術(shù)3D打印應(yīng)用于納米級(jí)精度對(duì)準(zhǔn) 再光纖和芯片上進(jìn)行3D打印納米級(jí)精度3D對(duì)準(zhǔn)技術(shù) 光學(xué)級(jí)三維打印
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Nanoscribe Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)

品牌：nanoscribe 型號(hào)：Photonic Professional GT2 產(chǎn)地：歐洲德國(guó)

廠商：納糯三維科技（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。
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EVG770 NT分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)

品牌：EVG 型號(hào)：EVG770 產(chǎn)地：歐洲奧地利

廠商：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。
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HERCULES量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng)

品牌：EVG 型號(hào)：HERCULES 產(chǎn)地：歐洲奧地利

廠商：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：光刻機(jī)Track系統(tǒng)通過集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動(dòng)化功能，完善了EVG光刻機(jī)產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機(jī)Track系統(tǒng)基于模塊化平臺(tái)，將EVG已建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的清潔，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。
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EVG7300多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)

品牌：EVG 型號(hào)：EVG7300 產(chǎn)地：歐洲奧地利

廠商：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統(tǒng)可以支持多種相關(guān)的UV工藝:SmartNIL，晶圓級(jí)光學(xué)(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個(gè)靈活的工具中
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EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng)

品牌：EVG 型號(hào)：EVG6200 NT 產(chǎn)地：歐洲奧地利

廠商：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：特色：EVG 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。
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￥1500000

EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)EVG610

品牌：EVG 型號(hào)：EVG610 產(chǎn)地：歐洲奧地利

廠商：岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：EVG610支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。
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上海伯東氦質(zhì)譜檢漏儀光刻機(jī)檢漏 ASM 310

品牌：普發(fā)真空型號(hào)： ASM 310 產(chǎn)地：歐洲德國(guó)

廠商：伯東企業(yè)（上海）有限公司

簡(jiǎn)介：便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 主要優(yōu)點(diǎn)： 1.集成無油真空系統(tǒng)：隔膜泵 MVP 020 1.7 m3/h 粗抽能力 + ATH 系列渦輪分子泵 2.氦氣抽速 1.1l/s 3.進(jìn)氣口壓力 15 hPa 4.大尺寸高亮彩色觸摸屏 5.便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 重量?jī)H 21 Kg 6.豐富的可選配件，如吸槍、遙控器、小推車、標(biāo)準(zhǔn)漏孔等 7.帶有可伸縮手柄的靈巧設(shè)計(jì) 8.可以在任何位置操作：水平或垂直 9.可拆卸式操作面板，帶有用于在金屬底板上定位的磁鐵
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JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統(tǒng)

品牌：日本電子型號(hào)：JBX-8100FS 產(chǎn)地：亞洲日本

廠商：捷歐路（北京）科貿(mào)有限公司

簡(jiǎn)介：zuixin高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
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JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng)

品牌：日本電子型號(hào)：JBX-6300FS 產(chǎn)地：亞洲日本

廠商：捷歐路（北京）科貿(mào)有限公司

簡(jiǎn)介：JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為（計(jì)算值）2.1nm的電子束，簡(jiǎn)便地描畫出線寬在8nm以下（實(shí)際可達(dá)5nm）的圖形。此外，該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場(chǎng)拼接精度和套刻精度，性能比優(yōu)越。利用zui細(xì)電子束束斑（實(shí)測(cè)值直徑≦2.9nm）可以描畫8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)極為精細(xì)的圖形。
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JBX-9500FS　電子束光刻系統(tǒng)

品牌：日本電子型號(hào)：JBX-9500FS 產(chǎn)地：亞洲日本

廠商：捷歐路（北京）科貿(mào)有限公司

簡(jiǎn)介：JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具世界zui高水平的產(chǎn)出量和定位精度，zuida能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
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JBX-3200MV　電子束光刻系統(tǒng)

品牌：日本電子型號(hào)：JBX-3200MV 產(chǎn)地：亞洲日本

廠商：捷歐路（北京）科貿(mào)有限公司

簡(jiǎn)介：JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 zuixian極n的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)?
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JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng)

品牌：日本電子型號(hào)：JBX-3050MV 產(chǎn)地：亞洲日本

廠商：捷歐路（北京）科貿(mào)有限公司

簡(jiǎn)介：JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 zuixian極n的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)?
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TC Wafer熱電偶晶圓測(cè)溫系統(tǒng) 晶圓硅片測(cè)溫?zé)犭娕?光刻機(jī)晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)

品牌：智測(cè)電子型號(hào)：TC-Wafer 產(chǎn)地：上海徐匯區(qū)

廠商：上海智與懋檢測(cè)儀器設(shè)備有限公司
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M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)

品牌：Tera print 型號(hào)：M 產(chǎn)地：美洲加拿大

廠商：北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司

簡(jiǎn)介：聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)（polymer pen lithography）聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無需光掩膜，且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率，可應(yīng)用于納米粒子合成，蛋白陣列，單細(xì)胞排布，納米電路構(gòu)造、生物芯片、化學(xué)檢測(cè)、微尺度催化反應(yīng)、分子馬達(dá)等領(lǐng)域。此設(shè)備在國(guó)際上屬于基于聚合物筆光刻(PPL)技術(shù)的納米制造系統(tǒng)，PPL技術(shù)是美國(guó)Tera-print公司獨(dú)有的技術(shù)。
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桌上型激光直寫光刻系統(tǒng)Dilase 250

品牌：克勞伊型號(hào)：Dilase 250 產(chǎn)地：歐洲法國(guó)

廠商：浙江揚(yáng)清芯片技術(shù)有限公司

簡(jiǎn)介：主要優(yōu)勢(shì) ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
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濕法工藝晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng) 光刻機(jī)晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)

品牌：智測(cè)電子型號(hào)：定制產(chǎn)地：安徽合肥

廠商：合肥智測(cè)電子有限公司
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荷蘭SCIL全自動(dòng)納米壓印光刻機(jī)

品牌：瑞士SCIL 型號(hào)：AutoSCIL 產(chǎn)地：歐洲瑞士

廠商：倬昊納米科技（上海）中心

共19條
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新品推薦: 濕法工藝晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng) 光刻機(jī)晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng); 荷蘭SCIL全自動(dòng)納米壓印光刻機(jī); 桌上型激光直寫光刻系統(tǒng)Dilase 250
主要優(yōu)勢(shì) ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20; TC Wafer熱電偶晶圓測(cè)溫系統(tǒng) 晶圓硅片測(cè)溫?zé)犭娕?光刻機(jī)晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng); 上海伯東氦質(zhì)譜檢漏儀光刻機(jī)檢漏 ASM 310
便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 主要優(yōu)點(diǎn)： 1.集成無油真空系統(tǒng)：隔膜泵 MVP 020 1.7 m3/h 粗抽能力 + ATH 系列渦輪分子泵 2.氦氣抽速 1.1l/s 3.進(jìn)氣口壓力 15 hPa 4.大尺寸高亮彩色觸摸屏 5.便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 重量?jī)H 21 Kg 6.豐富的可選配件，如吸槍、遙控器、小推車、標(biāo)準(zhǔn)漏孔等 7.帶有可伸縮手柄的靈巧設(shè)計(jì) 8.可以在任何位置操作：水平或垂直 9.可拆卸式操作面板，帶有用于在金屬底板上定位的磁鐵; M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)
聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)（polymer pen lithography）聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無需光掩膜，且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率，可應(yīng)用于納米粒子合成，蛋白陣列，單細(xì)胞排布，納米電路構(gòu)造、生物芯片、化學(xué)檢測(cè)、微尺度催化反應(yīng)、分子馬達(dá)等領(lǐng)域。此設(shè)備在國(guó)際上屬于基于聚合物筆光刻(PPL)技術(shù)的納米制造系統(tǒng)，PPL技術(shù)是美國(guó)Tera-print公司獨(dú)有的技術(shù)。; EVG7300多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)
多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統(tǒng)可以支持多種相關(guān)的UV工藝:SmartNIL，晶圓級(jí)光學(xué)(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個(gè)靈活的工具中; EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng)
特色：EVG 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。