天津市中環(huán)實驗電爐有限公司--二十年的專注;新材料燒結(jié)專家長期生產(chǎn)實驗電爐有管式爐馬弗爐石墨烯管式爐PECVD系統(tǒng) 等實驗室設(shè)備PECVD系統(tǒng)在輝光放電條件下,由于硅烷等離子體中的電子具有幾個ev 以上的能量,因此H2和SiH4受電子的碰撞會發(fā)生分解,此類利用PECVD系統(tǒng)反應(yīng)屬于初級反應(yīng)若不考慮射頻分解時的中間激發(fā)態(tài),可以得到如下一些生成SiHm(m=0,1,2,3)與原子H 的離解反應(yīng):
按照基態(tài)分子的標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)熱計算,上述各離解過程(2.1)~(2.5)所需的能量依次為2.14.14.45.9eV 和4.5eV
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