磁控濺射儀為一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2015年05月25日啟用。

磁控濺射為物理氣相沉積的一種。金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料的制備通常會采用一般的濺射法，其的特點(diǎn)為有著較為簡單的設(shè)備，控制起來不困難，有著較大的鍍膜面積以及有著較強(qiáng)的附著力等。在上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是使高速、低溫、低損傷得以實(shí)現(xiàn)。由于高速濺射是在低氣壓下進(jìn)行，必須要使氣體的離化率得到有效地提高。磁控濺射利用將磁場往靶陰極表面引入，通過磁場約束帶電粒子來使得等離子體密度提高進(jìn)而使得濺射率增加。

交流磁控濺射介紹

相比于直流濺射，交流電源被交流磁控濺射采用來對直流電源進(jìn)行替代，使靶面的異常放電現(xiàn)象得以解決。靶對真空室壁不是恒定的負(fù)電壓，而是周期一定的交流脈沖電壓。

交流磁控濺射在以一定的面平均功率為前提，負(fù)脈沖期間能夠?qū)⒏蟮拿}沖功率施加給靶。所以，在不對靶的冷卻條件進(jìn)行改變的情況下，交流濺射還能夠使基片附近的等離子體密度增強(qiáng)。交流濺射 ( 脈沖濺射 ) 的電壓波形既能夠?yàn)閷ΨQ的，同樣也能夠?yàn)椴粚ΨQ的。輸出波形為對稱方波或正弦波的濺射方式一般被叫做交流濺射 ( 常在對靶濺射時應(yīng)用 ) ，而輸出電壓波形為不對稱的矩形波的交流濺射方式被叫做脈沖濺射 ( 常在單靶濺射時應(yīng)用 ) 。當(dāng)在對靶濺射時使用交流濺射技術(shù)，陰極和陽極由一個周期中的每塊靶輪流充當(dāng)，使得良好的“自清潔”效應(yīng)形成。在沉積多元合金或化合物薄膜時，還能夠利用對交變脈沖電壓的占空比的調(diào)節(jié)來對薄膜的組分進(jìn)行改變。