氣壓式納米壓印系統(tǒng)PL-T、PL-S、PL-A
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輪廓儀 Profilm3D-光學(xué)輪廓儀
輪廓儀 Alpha-Step? D-500探針式輪廓儀
納米壓印光刻技術(shù)在納米圖案轉(zhuǎn)移過程中具有無與倫比的優(yōu)勢。目前納米壓印 技術(shù)應(yīng)用于廣泛于：微透鏡陣列、AR/VR、 顯示器、生物技術(shù)、半導(dǎo)體集成電路和先進材料等 。
產(chǎn)品特點
● <5nm 超高壓印分辨率
● 真空快速貼合
● 熱/紫外納米壓印
● 無殘余層壓印
● 任意基材
● 全自動壓印壓印流程
規(guī)格：桌面式/全自動
冷卻方式：流動空氣/冷卻水
固化方式：熱固化、紫外固化
樣品尺寸：4/6/8/12 inch
熱壓溫控范圍 ：~300℃
紫外光源：UVLEDs
紫外光強：~800Mw/cm2
主波長：365nm
極限真空：<-100kPa
最 大壓強：>0.6MPa
全系列納米壓印材料
報價：面議
已咨詢204次氣壓式納米壓印系統(tǒng)
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已咨詢90次其他附件
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已咨詢2642次氣體激光器
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進行存儲與管理，可建立數(shù)字切片庫，便于培訓(xùn)、分析、管理等，脫離時間、空間限制。
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將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化，進行存儲與管理，可建立數(shù)字切片庫，便于培訓(xùn)、分析、管理等，脫離時間、空間限制。
電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進行直接寫入，通過改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機（Pharos系列產(chǎn)品）， 具有高分辨率、 精準(zhǔn)控制和高度自動化的優(yōu)勢， 被廣泛應(yīng)用于制備半導(dǎo)體芯片、 光子學(xué)元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域， 是進行亞微米至納米級曝光技術(shù)研發(fā)的理想工具。
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等先進制程。 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國教學(xué)儀器設(shè)備評比較好獎”,該獎項由國家教育裝備委員會頒發(fā)，表彰其在納米教育實驗系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計、穩(wěn)定性能和在全國高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮氣發(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗及專業(yè)的售后支持團隊。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實驗室持續(xù)開發(fā)新機型。 在日本、 中國等多國取得多項技術(shù)專利。工廠通過ISO9001認(rèn)證。
較為低的曲率半徑：每根針經(jīng)過質(zhì)檢； 較小探針差異：較為特加工工藝實現(xiàn)精準(zhǔn)控制
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