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核心參數(shù)

測量范圍：10 mbar ~ 5×10?? mbar
精度：1% 讀數(shù)（0.1~1×10?? mbar）
耐腐蝕性：不銹鋼材質(zhì)，抗 BF?/PH?
維護(hù)需求：幾乎免維護(hù)（傳感器可清潔/更換）

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產(chǎn)品特點(diǎn)：

超高精度：0.1 mbar至1×10?? mbar范圍內(nèi)達(dá)讀數(shù)±1%

100%線性壓力讀數(shù)（與氣體種類無關(guān)）

長期穩(wěn)定性：年漂移率<1.5%

不銹鋼傳感器抗腐蝕與沉積

安全潔凈測量：無污染/無熱輻射/無電離效應(yīng)

產(chǎn)品詳情：

上海伯東代理德國 PH-Instruments DosiTorr 是一款基于?Spinning Rotor Gauge (SRG) 技術(shù)?的高真空壓力傳感器，專為?半導(dǎo)體制造、離子注入、干法蝕刻?等嚴(yán)苛工業(yè)環(huán)境設(shè)計(jì)。其核心優(yōu)勢在于?長期穩(wěn)定性、耐腐蝕、超清潔測量，可完全替代傳統(tǒng)的電離規(guī)（Ion Gauge），解決漂移、沉積污染和頻繁失效問題。

技術(shù)參數(shù)：

參數(shù)	DosiTorr	傳統(tǒng)電離規(guī) (Ion Gauge)
測量范圍	10 mbar ~ 5×10?? mbar	10?3 mbar ~ 10?1? mbar（易漂移）
精度	1% 讀數(shù)（0.1~1×10?? mbar）	10%~20%（受污染影響大）
長期穩(wěn)定性	<1.5%/年	需頻繁校準(zhǔn)（每周~每月）
耐腐蝕性	不銹鋼材質(zhì)，抗 BF?/PH?	鎢絲易腐蝕，壽命僅數(shù)周~數(shù)月
響應(yīng)時間	1s（快模式）	0.1s~1s（但易受干擾）
維護(hù)需求	幾乎免維護(hù)（傳感器可清潔/更換）	需定期更換燈絲，維護(hù)成本高

產(chǎn)品應(yīng)用:

半導(dǎo)體制造：離子注入機(jī)（ION Source & End Station）壓力監(jiān)測

干法蝕刻：等離子體腔室真空控制

校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室：作為高精度參考標(biāo)準(zhǔn)

光伏/LED：MOCVD 反應(yīng)腔真空管理

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伯東公司日本原裝設(shè)計(jì)制造離子蝕刻機(jī) IBE. 提供微米級刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料; 上海伯東離子蝕刻機(jī),離子蝕刻機(jī)

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伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.; 上海伯東NS離子蝕刻機(jī),離子刻蝕機(jī)

上海伯東日本原裝進(jìn)口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.; Atonarp 適用于半導(dǎo)體過程控制在線質(zhì)譜儀 Aston?

Aston? 特性實(shí)時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺, 提供實(shí)時, 可操作的數(shù)據(jù) 采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用可與大批量生產(chǎn)工具完全集成 Aston? 作為一個強(qiáng)大的平臺, 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.