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核心參數(shù)

測(cè)量范圍：10 mbar ~ 5×10?? mbar
長(zhǎng)期穩(wěn)定性：<1%/年
耐腐蝕性：全金屬，抗 H?/O? 環(huán)境

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產(chǎn)品特點(diǎn)：

VIM-2 優(yōu)勢(shì):
10 mbar（暖容器）~ 5×10?? mbar（低溫容器）
鋰電池供電（>3 小時(shí)續(xù)航），藍(lán)牙/Win 端遠(yuǎn)程操作
無(wú)電子穿透真空，抗腐蝕（1.4404/1.4034 不銹鋼）
<1% 年漂移率，無(wú)需校準(zhǔn)
1s 響應(yīng)（快模式），內(nèi)置 1023 組數(shù)據(jù)記錄
1 個(gè)讀數(shù)頭可匹配多個(gè)傳感器，降低部署成本

產(chǎn)品詳情：

上海伯東代理德國(guó) PH-Instruments VIM-2 是一款?電池供電的便攜式 SRG 真空計(jì)，專為?低溫儲(chǔ)罐（液氫/液氦/LNG）、真空絕緣設(shè)備?設(shè)計(jì)，可測(cè)量?10 mbar ~ 5×10?? mbar?的超寬范圍，解決傳統(tǒng) Pirani 規(guī)無(wú)法檢測(cè)高真空泄漏的痛點(diǎn)。

參數(shù)	VIM-2	Pirani 規(guī)
測(cè)量范圍	10 mbar ~ 5×10?? mbar	10?3 mbar ~ 1000 mbar
低溫適用性	可測(cè) 10?? mbar（冷容器）	僅能測(cè) >10?2 mbar（暖容器）
長(zhǎng)期穩(wěn)定性	<1%/年	需定期校準(zhǔn)（受溫度影響大）
耐腐蝕性	全金屬，抗 H?/O? 環(huán)境	易受化學(xué)氣體腐蝕
安全性	無(wú)電氣饋通，防爆設(shè)計(jì)	需穿透真空，存在泄漏風(fēng)險(xiǎn)
維護(hù)成本	傳感器壽命 >10 年	需定期更換燈絲

產(chǎn)品應(yīng)用:

能源行業(yè)：液氫/液氦儲(chǔ)罐真空絕緣監(jiān)測(cè)

航天航空：火箭燃料箱真空泄漏檢測(cè)

超導(dǎo)設(shè)備：加速器/核聚變裝置絕緣維護(hù)

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超高精度：0.1 mbar至1×10?? mbar范圍內(nèi)達(dá)讀數(shù)±1% 100%線性壓力讀數(shù)（與氣體種類無(wú)關(guān)）長(zhǎng)期穩(wěn)定性：年漂移率<1.5% 不銹鋼傳感器抗腐蝕與沉積安全潔凈測(cè)量：無(wú)污染/無(wú)熱輻射/無(wú)電離效應(yīng); 上海伯東德國(guó) Pfeiffer P3 旋片真空泵油

潤(rùn)滑油; 上海伯東Hakuto 離子蝕刻機(jī),離子刻蝕機(jī)

伯東公司日本原裝設(shè)計(jì)制造離子蝕刻機(jī) IBE. 提供微米級(jí)刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對(duì)磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料; 上海伯東離子蝕刻機(jī),離子蝕刻機(jī)

伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.; 上海伯東離子蝕刻機(jī),離子刻蝕機(jī)

伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.; 上海伯東NS離子蝕刻機(jī),離子刻蝕機(jī)

上海伯東日本原裝進(jìn)口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 內(nèi)部使用美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測(cè)當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.; Atonarp 適用于半導(dǎo)體過(guò)程控制在線質(zhì)譜儀 Aston?

Aston? 特性實(shí)時(shí)過(guò)程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺(tái), 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù) 采用等離子體電離源, 無(wú)燈絲, 更耐用可與大批量生產(chǎn)工具完全集成 Aston? 作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.