電子半導(dǎo)體失效分析-離子研磨拋光儀

SEMPREP SMART電子半導(dǎo)體失效分析-離子研磨拋光儀離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設(shè)備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無(wú)損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品，例如在半導(dǎo)體測(cè)試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實(shí)現(xiàn)出色的效果。

 主要特點(diǎn)：

先進(jìn)的離子槍設(shè)計(jì)和自動(dòng)化功能

新型用戶(hù)友好操作軟件:為用戶(hù)提供智能輔助

更精確的針閥:允許對(duì)氣流進(jìn)行精細(xì)調(diào)整

高精度可調(diào)性:用于精細(xì)調(diào)節(jié)操作
更長(zhǎng)壽命高真空傳感器

產(chǎn)品功能：

可選低能槍?zhuān)↙EG）

可選的新型 LN2 冷卻系統(tǒng)

可選真空轉(zhuǎn)移裝置 (VTU)，用于在真空條件下取出樣品

 獨(dú)立的對(duì)位樣品臺(tái)：在進(jìn)行 90° 加工時(shí)用于精確樣品定位

技術(shù)參數(shù)：

離子槍?zhuān)?/p>

超高能量離子槍?zhuān)罡呖蛇_(dá) 16 keV

樣品尺寸

截面樣品臺(tái)（可選 30°、90°樣品臺(tái)）：

 30°樣品臺(tái)：最大尺寸16.4mm (長(zhǎng)) x 16mm (寬) x 3.1mm (厚) 

 90°樣品臺(tái)：最大尺寸18.6mm (長(zhǎng)) x 16mm (寬) x 6mm (厚)

用于表面加工（EBSD）的平面樣品臺(tái)，配有三種不同的頭部類(lèi)型

• 平頭型：最大直徑 50mm x 4mm

• 標(biāo)準(zhǔn)型：最大直徑 32mm x 15mm

• 空心型：最大直徑 25mm x 23mm

樣品臺(tái)移動(dòng)

• 樣品傾斜角度：0° 至 30°，每 0.1° 連續(xù)可調(diào)

• 樣品旋轉(zhuǎn)角度調(diào)節(jié)：360 可變速樣品旋轉(zhuǎn)，角度速度可調(diào)

• 樣品加工擺角（搖擺）：±10° 至 ±120°，每 5° 連續(xù)可調(diào)

 樣品冷卻（可選）

液氮冷卻或 Peltier 冷卻

真空系統(tǒng) 

無(wú)油隔膜泵和分子泵  

氣體供應(yīng)系統(tǒng) 

純度為 99.999% 的氬氣工作氣體，高精度針閥流量控制 

分子泵

HiPace 80 Neo. 

成像系統(tǒng) 

500萬(wàn)像素CMOS相機(jī)，具有圖像內(nèi)的測(cè)量功能 

計(jì)算機(jī)控制 

易于使用的圖形界面，自動(dòng)化離子槍操作和樣品臺(tái) 位置校準(zhǔn)

使用氬離子束進(jìn)行加工

【新品】Technoorg Linda電鏡制樣設(shè)備SEMPREP SMART 離子研磨儀