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Phenom MAPS 大面積圖像拼接

面議 (具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn))
飛納電鏡 Phenom MAPS 歐洲 荷蘭 2026-04-14 12:23:42
售全國(guó) 入駐:8年 等級(jí):銀牌 營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
同款產(chǎn)品:電鏡智能軟件(5件)
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產(chǎn)品特點(diǎn):

Phenom MAPS 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件,可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集,并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式,從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。

產(chǎn)品詳情:

Phenom MAPS 系統(tǒng)

多模態(tài)多維度地圖式圖像?動(dòng)采集及拼接軟件 

Phenom MAPS 作為?款多模態(tài)多維度地圖式圖像

? 動(dòng)       件 , 可 ? 動(dòng)   ? 型 圖  數(shù) 據(jù)

集 , 并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像 、 分析模式 , 

?提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。

 

該軟件?持 Phenom 全系列臺(tái)式掃描電?顯微鏡型

號(hào) ,   Phenom XL G2 、 Phenom Pharos G2

 Phenom ProX 歡迎聯(lián)系我們升級(jí)體驗(yàn)。

 

 

MAPS 核?功能

Phenom MAPS 軟件提供:

 

  ??積?動(dòng)數(shù)據(jù)采集: 實(shí)現(xiàn)?動(dòng)化?縫全景拼圖和??積 EDS 能譜數(shù)據(jù)采集

  CISA 多平臺(tái)數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián): 光鏡、 拉曼、紅外、XPS ,甚? CAD 或?繪草圖 ,通通可以關(guān)聯(lián)   多尺度成像?動(dòng)化: 軟件提供全?動(dòng)的?質(zhì)量、 多尺度成像解決?案

  跨平臺(tái)設(shè)備連接: 不同設(shè)備之間可以進(jìn)?以樣品為中?的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)處理?作

  離線數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)管理: MAPS 軟件的離線版本?便您隨時(shí)進(jìn)?數(shù)據(jù)處理并規(guī)劃下?次成像?作

 

 

 

 

 

?動(dòng)數(shù)據(jù)采集

??可以在各種樣本上設(shè)置和運(yùn)?多個(gè)圖塊集 , 實(shí)現(xiàn)?動(dòng)化 、 ??值守的儀器作業(yè) , 優(yōu)化設(shè) 備操作時(shí)間 , 獲取?質(zhì)量數(shù)據(jù)。

 

?動(dòng)數(shù)據(jù)采集技術(shù)讓您?需花費(fèi)數(shù)?時(shí)搜索感興趣的區(qū)域 , 可以快速輕松拍攝??積拼圖的 同時(shí)還能夠?動(dòng)收集選定區(qū)域的?分辨率數(shù)據(jù)。

 

 

此外 , Phenom MAPS 軟件的離線功能可以幫 您 將 數(shù) 據(jù) 從 設(shè) 備 中 導(dǎo) 出 并 在 任 意 ? 臺(tái) PC 中 隨 時(shí)進(jìn)?數(shù)據(jù)分析。 您可以在 MAPS 軟件中標(biāo)注 數(shù)據(jù)并選擇新的區(qū)域進(jìn)?數(shù)據(jù)采集 。 該軟件還 可以進(jìn)?多個(gè)數(shù)據(jù)集的?視野圖像?動(dòng)拼接和 導(dǎo)出 , 提供多種拼接算法和導(dǎo)出選項(xiàng) , 可以導(dǎo) 出 RAW、tile TIFF 或 HD 視圖的兼容格式。

 

應(yīng)? SEM-EDS 互聯(lián)功能進(jìn)?材料表征

 

與傳統(tǒng)技術(shù)相? , Phenom MAPS 軟件可以幫助您更快地獲取低倍率 、 ??積的 EDS 能譜 圖 , 從?直觀地顯?整個(gè)樣品中的元素分布。(以礦物樣品分析為例)

 

 

圖2 . MAPS ??積能譜拼圖結(jié)果

 

 

數(shù)據(jù)收集后 ,通過(guò) Phenom MAPS 軟件進(jìn)?進(jìn)?步 的定量 EDS 分析。

 

 

圖3 . ?持離線數(shù)據(jù)處理: 將 EDS 數(shù)據(jù)導(dǎo)? Phenom 臺(tái)式掃描電鏡的 UI 中

MAPS CISA 多平臺(tái)數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)

 

 

光鏡、 拉曼、 紅外、XPS , 甚? CAD 或?繪草圖 , 通通可以關(guān)聯(lián)。

 

下圖案例: 通過(guò) MAPS CISA , 將 SEM 和 XPS ?分布以及全譜分析的功能相結(jié)合 , 分析多孔 砂粒?的表?組成和形貌。

 

通 過(guò) 結(jié) 合 XPS 和 SEM 的 分 析 , 可 以 精 確 地 將 化 學(xué) 信 息 與 顯微 鏡 提 供 的 ? 分 辨 率 結(jié) 構(gòu) 信 息 融合 。 CISA 關(guān)聯(lián)?作流程尤其適?于研究電池 、 ?分?材料 、 催化劑和?屬等樣品的材料 研究。

 

 

應(yīng) ? 案例: 使 ?  Phenom MAPS 軟件 分析 傷?敷料中銀的分布

 

含 銀 的傷 ? 敷 料 是 ? 種 先 進(jìn) 的 愈 合 技 術(shù) , 利 ? 銀 的 抗 菌 特 性 來(lái) 預(yù)防感染。

 

 

 

這 些 敷 料 由 包 括 傷 ? 墊 的 多 層 組 成 , 傷 ? 墊 含 有 銀 , 由 吸 收 液 體 的 ? 紡 布 聚 合 物 纖 維 制 成 。 這 些 纖 維 通 過(guò) 聚 ? 烯 ? 膜與傷?隔開(kāi) , 防?傷?墊粘在傷?上。

 

此類敷料的有效性取決于銀的物理和化學(xué)特性以及銀在敷 料 中 的 分 布 情 況 。 如 果 銀 離 ? 濃 度 過(guò) ? , 則 離 ? 可 能 會(huì) 從 敷料中釋放出來(lái)并導(dǎo)致細(xì)胞毒性作? 。

5 . 含銀的傷?墊可防?感染

 

 

利??納臺(tái)式掃描電鏡的 MAPS 軟件可以創(chuàng)建?分辨率 EDS 圖 , 顯?銀在傷?敷料中的 分 布 情 況 。 如 下 圖 所 ? , 銀 (以 粉 紅 ? 顯 ? ) 排 列 在 聚 ? 烯 ? 的 邊 緣 。 這 可 以 表 征 敷 料 的質(zhì)量及其與銀離?控制釋放的關(guān)系。

圖6 . ?縫全景拼圖: ??積 SEM 傷?敷料拼圖穿孔 ?膜后?是聚合物纖維圖7 . ??積 EDS 圖與 MAPS 軟件中??積敷料能 譜拼圖 ,粉?顯?了銀的分布


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