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Park NX15 功能強(qiáng)大的原子力顯微鏡提高您的生產(chǎn)力

面議 (具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn))
Park原子力顯微鏡 NX15 亞洲 韓國(guó) 2026-04-14 12:26:22
售全國(guó) 入駐:11年 等級(jí):銀牌 營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
同款產(chǎn)品:大樣品原子力顯微鏡(4件)
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產(chǎn)品詳情:

概覽

功能強(qiáng)大——助力研究如虎添翼

Park NX15不僅非常適合共享實(shí)驗(yàn)室里的研究人員處理各種樣品、進(jìn)行多變量實(shí)驗(yàn),也同樣適合故障分析工程師處理晶圓的系統(tǒng)性工作。合理的價(jià)格和強(qiáng)大的集成功能使其快速成為業(yè)內(nèi)的明星AFM.


便捷的樣品測(cè)量(包含多樣品掃描)

  • 一次可對(duì)多個(gè)樣品自動(dòng)成像

  • 設(shè)計(jì)的多樣本卡盤,一次至多可裝載9個(gè)單獨(dú)樣品(可選)

  • 全電動(dòng)XY樣品臺(tái)行程可達(dá) 150 mm x 150 mm

 

通過(guò)消除掃描器串?dāng)_進(jìn)行精 準(zhǔn)的XY掃描

  • 獨(dú)立閉環(huán)XY和Z柔性掃描器

  • 正交XY掃描

  • 無(wú)需軟件處理即可保留真實(shí)可信的樣品表面形貌信息

 

真正非接觸模式實(shí)現(xiàn)探針使用壽命、成像分辨率和樣品的有效保護(hù)

  • 快速的Z伺服速度,實(shí)現(xiàn)真正的非接觸模式

  • 針尖磨損微小化,可實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)時(shí)間的高質(zhì)量和高分辨率成像

 

多種模式和選項(xiàng)

  • 全面性的測(cè)量模式和表征方法

  • 可實(shí)現(xiàn)可選配件和升級(jí)擴(kuò)展功能

  • 用于故障分析(FA)的精密電學(xué)測(cè)量


技術(shù)信息

便捷的樣品測(cè)量(包含多樣品掃描)

Park NX15 多樣品掃描系統(tǒng)

  • 一次可對(duì)多個(gè)樣品自動(dòng)成像

  • 多樣品卡盤,一次可裝載9個(gè)單獨(dú)樣品(可選)

  • 全電動(dòng)XY樣品臺(tái)行程可達(dá) 150 mm x 150 mm

使用電動(dòng)樣品臺(tái),多樣品掃描可實(shí)現(xiàn)多區(qū)域同步成像和掃描自動(dòng)化。


以下是它的工作原理:
1.用戶可自定義多個(gè)掃描位置
2. 去開始掃描位置進(jìn)行成像
3. 抬針
4. 將機(jī)動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)到下一個(gè)用戶定義的坐標(biāo)
5. 下針
6. 重復(fù)掃描

通過(guò)輸入樣品臺(tái)坐標(biāo),利用兩個(gè)參考點(diǎn)消除樣品偏移,即可精 準(zhǔn)定位多個(gè)掃描位置。該自動(dòng)化功能大大簡(jiǎn)化了繁瑣的手動(dòng)操作流程,提高了工作效率。

 

NX20 Lite afm sys

 

無(wú)掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描

Park的串?dāng)_消除技術(shù)不僅修正了掃描器弓形彎曲的缺點(diǎn),還能在不同掃描位置、掃描速率和掃描尺寸條件下進(jìn)行平直正交XY軸掃描。即使是平坦的樣品也不會(huì)出現(xiàn)如光學(xué)平面、各種偏移掃描等背景曲率。因此Park能不懼艱難挑戰(zhàn),為您在研究中提供高精度的納米測(cè)量。

 

無(wú)耦合關(guān)系的XY和Z掃描器

Park的優(yōu)勢(shì)在于匠心獨(dú)運(yùn)的掃描器架構(gòu)。基于獨(dú)立XY掃描器和Z掃描器設(shè)計(jì)的撓曲結(jié)構(gòu),能讓您輕松獲得的較高精度納米級(jí)分辨率數(shù)據(jù)。

 

 

行業(yè)領(lǐng)跑的低噪聲 Z 探測(cè)器

Park AFM 配備了該領(lǐng)域有效的低噪聲Z探測(cè)器,噪音水平低于0.02 nm,因而達(dá)到了樣品形貌成像精 準(zhǔn),沒(méi)有邊沿過(guò)沖無(wú)需校準(zhǔn)的高效率。Park NX系列不僅為您提供高精 準(zhǔn)的數(shù)據(jù),更為您大大節(jié)省了時(shí)間成本。

 

 

用低噪聲 Z 探測(cè)器精 準(zhǔn)測(cè)量樣品形貌
  • 利用低噪聲Z探測(cè)器信號(hào)進(jìn)行形貌成像

  • Z探測(cè)器噪音水平低于0.02 nm

  • 沒(méi)有邊沿過(guò)沖,無(wú)需額外校準(zhǔn)

  • 只需在工廠校準(zhǔn)一次

樣品:1.2 μm 標(biāo)準(zhǔn)臺(tái)階高度
(9 μm x 1 μm, 2048 pixels x 128 lines)

 

Non-Contact? 模式可延長(zhǎng)探針壽命、保護(hù)樣品并精 準(zhǔn)測(cè)量

True Non-Contact? 模式是Park原子力顯微鏡系統(tǒng)專有的掃描模式。該模式通過(guò)在掃描過(guò)程中防止針尖和樣品損壞,產(chǎn)生高清的分辨率和準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。

接觸模式下,針尖在掃描過(guò)程中持續(xù)接觸樣品;輕敲模式下,針尖周期性地接觸樣品;而在非接觸模式下針尖不會(huì)接觸樣品。因此,使用非接觸模式具有幾大優(yōu)勢(shì)。由于針尖銳度得以保持,所以在整個(gè)成像過(guò)程中會(huì)以高分辨率進(jìn)行掃描。非接觸模式下由于針尖不會(huì)直接接觸樣品表面,從而避免了損壞軟樣品。

 

更快速的Z軸伺服使得真正的非接觸式原子力顯微鏡有更精 準(zhǔn)的反饋
  • 減少針尖磨損 → 長(zhǎng)時(shí)間高分辨率掃描

  • 無(wú)損式探針- 樣品接觸 → 樣品受損微小化

  • 可滿足各種條件下,對(duì)各種樣品的非接觸式掃描

 

 

此外,非接觸模式可以感知探針與樣品原子之間的作用力,甚至可以檢測(cè)到探針接近樣品時(shí)產(chǎn)生的橫向力。因此,在非接觸模式下使用探針可以有效避免撞到樣品表面時(shí)突然出現(xiàn)的高層結(jié)構(gòu)。而接觸模式和輕敲模式只能進(jìn)行探針底端檢測(cè),很容易受到這種撞擊傷害。


Technical deep trench


原子力顯微鏡模式

具有擴(kuò)展性的 AFM 解決方案

行業(yè)領(lǐng)跑——支持廣泛的SPM 模式和選項(xiàng)

如今,研究人員需要在不同的測(cè)量條件和樣品環(huán)境下表征廣泛的物理特性。 Park Systems能為您提供廣泛的 SPM 模式、多樣的 AFM 選項(xiàng)以及業(yè)界領(lǐng)跑的選項(xiàng)兼容性和可升級(jí)性,支持多種樣品表征。

 

Park NX15 擁有廣泛的SPM模式

形貌成像

  • 非接觸

  • 接觸

  • 輕敲

介電/壓電特性

  • 壓電力顯微鏡 (PFM)

  • 高壓PFM

  • 壓電響應(yīng)光譜

磁學(xué)特性

  • 磁力顯微鏡 (MFM)

 

電學(xué)特性

  • 導(dǎo)電原子力顯微鏡 (C-AFM)

  • 電流-電壓分光鏡

  • 開爾文探針力顯微鏡 (KPFM)

  • 高壓KPFM

  • 掃描電容顯微鏡 (SCM)

  • 掃描擴(kuò)展電阻顯微鏡 (SSRM)

  • 掃描隧道顯微鏡 (STM)

  • 光電流映射 (PCM)

  • 靜電力顯微鏡 (EFM)

 

力學(xué)特性

  • 力調(diào)制顯微鏡 (FMM)

  • 納米壓痕

  • 納米刻蝕

  • 高壓納米刻蝕

  • 納米操縱

  • 橫向力顯微鏡(LFM)

  • 力距 (F/d) 光譜

  • 力容積成像

化學(xué)特性

  • 具有功能化探針的化學(xué)力顯微鏡

  • 納米壓痕

  • 電化學(xué)顯微鏡 (EC-AFM)


技術(shù)參數(shù)

Park NX15 技術(shù)參數(shù)

 

ScannerZ Scanner

Flexure guided high-force scanner
Scan range: 15 μm (optional 30 μm)

 

XY Scanner

Single module flexure XY-scanner with closed-loop control
Scan range: 100 μm × 100 μm

 
StageZ stage

Motorized Z stage travel range: 25.5mm,
optional precision encoder for better stage repeatability

 

XY stage

Motorized XY stage travel range:
150 mm,
optional precision encoders for better XY stage repeatability

 
Sample Mount

Sample size: Up to 150 mm wafer sample

 
SoftwareSmartScan?

AFM system control and data acquisition software
Auto mode for quick setup and easy imaging
Manual mode for advanced use and finer scan control

 

SmartAnalysis?

AFM data analysis software
Stand-alone design—can install and analyze data away from AFM
Capable of producing 3D renders of acquired data

 
Dimensions in mmnx15_mm.png


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