全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡
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電鏡原位原子力 EM-AFM 電鏡原位原子力顯微鏡
電學(xué)原子力 Nano observer 電學(xué)原子力顯微鏡
可旋轉(zhuǎn)顯微鏡 NX-3DM 可旋轉(zhuǎn)全自動原子力顯微鏡
全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡
對于工程師來說，識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別，通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率，越來越多的行業(yè)需要超平的介質(zhì)和基板來滿足不斷縮小的設(shè)備需求，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)具有業(yè)界低0.5埃噪音，并將與其真正的非接觸式模式相結(jié)合實現(xiàn)亞埃級表面粗糙度的測試。
基本技術(shù)參數(shù)
200 mm電動XY平臺 | 電動Z平臺 | 噪音 |
行程可達(dá)150mm x 150mm, 2 μm重現(xiàn)性 0.095nm分辨率 | 25 mm Z行程距離 0.1μm 分辨率 小于1μm 重現(xiàn)性 | 小于 0.5 μm/s |
尺寸&重量 | 控制箱 | 設(shè)備需求環(huán)境 |
880（w）x 880（d）x 880（h） 620kg | 600（w）x 900（d）x 1330（h） 170kg | 室溫10 ℃~40 ℃ 操作18 ℃~24 ℃ 濕度 30%~60% |
主要功能
1) 快速自動缺陷檢測功能
2) 亞埃級表面粗糙度的測量
3) 有小的熱漂移，自動分析測量的數(shù)據(jù)
4) 在線監(jiān)測測試過程，
應(yīng)用
自動檢測缺陷
相關(guān)文獻(xiàn)
Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I. Park; S-J. Proc. SPIE 8681,Metrology, Inspection, and Process Control for MicrolithographyXXVII, 868106 (April 18, 2013); doi:10.1117/12.2011463
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在納米尺度研究領(lǐng)域，瑞士Nanosurf公司推出的DriveAFM原子力顯微鏡系統(tǒng)代表了當(dāng)前尖端技術(shù)的巔峰之作。通過光熱激振（CleanDrive）、直驅(qū)掃描（Direct Drive）和全電動控制三大核心技術(shù)的協(xié)同創(chuàng)新，DriveAFM徹底解決了傳統(tǒng)AFM在精度、穩(wěn)定性和跨環(huán)境兼容性上的固有瓶頸，為材料科學(xué)和生命科學(xué)研究提供了前所未有的高精度、高穩(wěn)定性的研究平臺。
FlexAFM是一款高度通用且靈活穩(wěn)定的原子力顯微鏡，適用于物理、材料科學(xué)及生物科學(xué)等領(lǐng)域。它具有穩(wěn)定的常規(guī)材料學(xué)應(yīng)用性能，并能便捷地與倒置光學(xué)顯微鏡集成用于生物研究，或放置在手套箱中研究二維材料。FlexAFM支持多種操作模式和升級配件，具備高分辨率成像和探索樣品地形的能力，尤其擅長處理敏感樣品的電氣特性，是全球眾多科研人員的理想選擇。此外，它還能與外部硬件集成，擴展研究功能。對于生命科學(xué)研究，F(xiàn)lexAFM能夠與倒置顯微鏡聯(lián)用，實現(xiàn)在液體環(huán)境中的納米材料、生物分子或細(xì)胞研究。結(jié)合流體力學(xué)探針顯微鏡FluidFM技術(shù)，F(xiàn)lexAFM進(jìn)一步解鎖了單細(xì)胞生物學(xué)和納米科學(xué)的新應(yīng)用。
瑞士Nanosurf 原子力顯微鏡，專為工業(yè)級高精度與超大樣品而設(shè)計，將科研級分辨率與工業(yè)兼容性深度融合，成為半導(dǎo)體量產(chǎn)、新材料研發(fā)及跨學(xué)科微觀表征的強有力工具。
表面形貌是許多高科技材料表面的重要特性,其可能低至幾納米,表面粗糙度不到一納米。原子力顯微鏡可以在正常環(huán)境條件下輕松分析這些特征。
Alphacen 300 原子力顯微鏡系統(tǒng)是一種獨特的 AFM 解決方案，可以輕松處理大型和重型樣品。它具有Flex-Mount掃描頭，采用針尖掃描的設(shè)計方式，無論樣品重量如何，都能實現(xiàn)高性能成像。配置的CX 控制器是 Nanosurf 最先進(jìn)的 AFM 控制器，可快速精確地控制掃描過程，穩(wěn)定成像。專用的隔音罩可減少外部噪音和振動的影響。同時，該系統(tǒng)還可以通過添加額外移動軸或旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行更復(fù)雜的定制，滿足您的特定樣品測試需求。
Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環(huán)境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復(fù)性。與一般環(huán)境或干燥N2條件相比，高真空測量具有準(zhǔn)確度好、可重復(fù)性好及針尖和樣本損傷低等優(yōu)點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量，晶圓的表面粗糙度對于確定半導(dǎo)體器件的性能是至關(guān)重要的，對于先進(jìn)的元件制造商，芯片制造商和晶圓供應(yīng)商都要求對晶圓商超平坦表面進(jìn)行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說，識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別，通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率。
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