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儀器網/ 應用方案/ 新型疏水層析填料實現(xiàn)寡核苷酸的一步純化及柱上5'-DMT剪切

  • 新型疏水層析填料實現(xiàn)寡核苷酸的一步純化及柱上5'-DMT剪切

    本應用中我們展示了使用東曹新型疏水層析填料TSKgel Phenyl-3PW(20)，對20-mer單鏈DNA寡核苷酸進行一步純化及柱上DMT脫保護的純化工藝。

    應用行業(yè)： 制藥/化妝品 生物制藥   

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本應用中我們展示了使用東曹新型疏水層析填料TSKgel Phenyl-3PW(20)，對20-mer單鏈DNA寡核苷酸進行一步純化及柱上DMT脫保護的純化工藝。在pH 4.0條件下，柱上剪切并去除寡核苷酸5'-DMT帽，且低pH處理不會破壞寡核苷酸，該工藝展現(xiàn)出良好的可擴展性?？梢院喕押塑账峒兓鞒?，同時兼具高收率和產物完整性。

標簽：寡核苷酸純化

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