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儀器網/ 應用方案/ NexION 300S ICP-MS測定半導體級TMAH中的雜質

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四甲基氫氧化銨（TMAH）是一種廣泛用于半導體光刻工藝和液晶顯示器（LCD）生產中形成酸性光阻的基本溶劑由于其在此類高要求應用中的廣泛使用，使得對TMAH純度的檢測變得越來越重要由于具有快速測定各種工藝化學品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）已成為了質量控制不可缺少的分析工具然而，解決由基體帶來的多原子干擾和由于含有碳造成的基體YZ效應是非常重要的在直接分析有機溶劑時這些問題就顯得尤為突出本應用報告證明了NexION® 300S ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠對TMAH中全部痕量水平的雜質元素進行測定的能力 PerkinElmer 等離子質譜儀

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