任何金屬雜質(zhì)的存在都將對IC器件的可靠性產(chǎn)生不利影響在半導(dǎo)體實驗室進行其他半導(dǎo)體材料分析時也常常會使用硝酸，因此使用的硝酸需要具有高純度和高質(zhì)量由于具有快速測定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具然而，在傳統(tǒng)的等離子體條件下，往往存在氬離子與基質(zhì)成分結(jié)合產(chǎn)生多原子干擾的情況使用多極和非反應(yīng)氣體的碰撞池已被證明可以有效減少多原子干擾但是這種方法必須使用動能歧視去除反應(yīng)產(chǎn)生的副產(chǎn)物，這將會造成靈敏度的下降NexION 300 ICP-MS配置的通用池技術(shù)同時提供了碰撞模式反應(yīng)模式和標準模式三種測定模式，因此儀器操作人員可以根據(jù)實際測定的要求選擇Z適合的模式，并能在一個分析方法中進行不同模式的切換本應(yīng)用報告證明了NexION 300ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)NO3中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進行測定的能力這一實驗在一次測定中同時使用標準模式和反應(yīng)模式可以得到**的分析結(jié)果 PerkinElmer 等離子質(zhì)譜儀