鋰電清潔度行業(yè)檢測標(biāo)準(zhǔn)｜ParticleX Battery 全自動鋰電清潔度分析整體方案
飛納臺式掃描電鏡 Phenom Pure 高性價(jià)比標(biāo)準(zhǔn)版
飛納臺式掃描電鏡 | 工業(yè) 4.0 自動化與高通量質(zhì)控解決方案
飛納 Phenom Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡｜科研級桌面掃描電鏡
Pharos STEM 臺式生物掃透電鏡
Phenom Pharos G2 是荷蘭飛納推出的第二代 肖特基場發(fā)射電子源臺式掃描電鏡（桌面場發(fā)射 SEM）。設(shè)備集 背散射電子成像（BSE）+ 二次電子成像（SE）+ 集成能譜分析（EDS） 于一體，實(shí)現(xiàn)科研級微觀表征的高分辨率、高效率與全自動化。
得益于高亮度肖特基場發(fā)射電子源，Phenom Pharos G2 在 低電壓條件下依然能獲得清晰圖像，顯著降低樣品受損與電子束穿透，非常適合 絕緣材料、電子束敏感樣品、生物材料、聚合物 等領(lǐng)域的微觀分析。
產(chǎn)品亮點(diǎn)｜科研級臺式掃描電鏡的高端之選1. 真正的場發(fā)射級桌面電鏡
使用體驗(yàn)升級｜適合實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)中心、生產(chǎn)質(zhì)檢5. 快速、輕松、無需噴金
維護(hù)成本低｜適合高頻使用的科研與工程場景
飛納臺式掃描電鏡以其 穩(wěn)定、耐用、自動化高 的特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于科研院所、材料研發(fā)、鋰電行業(yè)、半導(dǎo)體檢測、質(zhì)量分析等領(lǐng)域。
適用應(yīng)用領(lǐng)域
為什么選擇飛納 Phenom Pharos G2？
? 科研級成像質(zhì)量
? 桌面級體積，無需機(jī)房
? 自動化程度高，操作零門檻
? 維護(hù)成本低、可靠性高
? 一機(jī)完成形貌 + 元素分析
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已咨詢179次飛納電鏡
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已咨詢1365次場發(fā)射掃描電鏡SEM5000
GAIA 超分辨率點(diǎn)重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal.nl 推出的旗艦超分辨率共聚焦模塊，得益于專利的 REscan（重掃描技術(shù)），GAIA 超分辨率點(diǎn)重掃共聚焦顯微鏡僅需幾納瓦的功率即可實(shí)現(xiàn)超越衍射極限的深度成像。 1. 超分辨率成像：得益于專利的 REscan 技術(shù)，GAIA 超分辨率的實(shí)時(shí)分辨率可達(dá) 170 nm，解卷積后可達(dá) 120 nm。 2. 可變針孔：搭配 6 個電動可變針孔，使得設(shè)備在各種物鏡下均可達(dá)到完美共焦 3. 成像溫和：僅需幾納瓦的功率即可實(shí)現(xiàn)超越衍射極限的深度成像，成像溫和，適合長時(shí)間活細(xì)胞超分辨率成像。
1. 深層成像：無針孔串?dāng)_現(xiàn)象，更適合于深度成像，最高可達(dá) 900 μm 2. 超快成像：采用狹縫針孔的線性掃描，擁有媲美轉(zhuǎn)盤式共聚焦的掃描速度（>100 fps @ 3Kx3K） 3. 超大視場：遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)共聚焦的視場大小，最大支持 FN29 4. 可變針孔：唯一擁有 6 個電動可變針孔的高速共聚焦系統(tǒng)，針孔在各種物鏡下均可達(dá)到完美共焦 5. 低光毒性：更低的光毒性和光損傷，適合長時(shí)間的活體成像
NL5+ 深層高速線重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal NL 推出的首款線重掃共聚焦模塊，采用狹縫針孔和 REscan（重掃描技術(shù)），擁有媲美轉(zhuǎn)盤式共聚焦的掃描速度，且圖片質(zhì)量更好，成像深度更深，適用于高速、深層的 3D 成像，并顯著降低光毒性和光漂白。 1. 深層成像：無針孔串?dāng)_現(xiàn)象，更適合于深度成像 2. 超快成像：75 fps@2048x512 px，55 fps@2048x2048 px 3. 低光毒性：更低的光毒性和光損傷，適合長時(shí)間的活體成像
ICSPI REDUX 原子力顯微鏡是一款基于芯片化技術(shù)（AFM-on-a-chip）的臺式納米表征設(shè)備，集高自動化、快速掃描與易操作性于一體。系統(tǒng)無需復(fù)雜光學(xué)調(diào)節(jié)與激光對準(zhǔn)，即可實(shí)現(xiàn)亞納米級分辨率的三維形貌成像與定量分析，廣泛適用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、生命科學(xué)及教學(xué)實(shí)驗(yàn)等場景。
nGauge AFM 是由 ICSPI 開發(fā)的一款芯片式原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope, AFM）。該系統(tǒng)基于專利 CMOS-MEMS 技術(shù)，將傳統(tǒng) AFM 的掃描器、傳感器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)全部集成在一塊微型 MEMS 芯片上，實(shí)現(xiàn)了真正的小型化、自動化和便捷化的納米級測量解決方案。
ParticleX Battery 鋰電清潔度分析系統(tǒng)是一款面向鋰離子電池材料與制造環(huán)節(jié)的全自動清潔度檢測設(shè)備。系統(tǒng)基于 SEM 與 EDS 技術(shù)，可自動識別并定量分析正負(fù)極材料中的金屬、磁性雜質(zhì)顆粒，幫助精準(zhǔn)溯源雜質(zhì)來源，降低安全與一致性風(fēng)險(xiǎn)。系統(tǒng)支持無人值守運(yùn)行，采用 3000 小時(shí)長壽命 CeB6 晶體燈絲與高通量設(shè)計(jì)，兼顧效率與穩(wěn)定性，并已與鋰電龍頭企業(yè)共建清潔度檢測方法與評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)，支持上下游統(tǒng)一對標(biāo)與質(zhì)量控制。
Phenom Pure 標(biāo)準(zhǔn)版是一款專為高分辨率成像設(shè)計(jì)的智能臺式掃描電鏡，采用獨(dú)家 CeB? 長壽命燈絲，分辨率優(yōu)于 10 nm，具備 15 秒抽真空、30 秒成像的行業(yè)領(lǐng)先速度。設(shè)備支持升級至 Phenom Pro/ProX，可擴(kuò)展至二次電子探測和能譜分析。憑借自動化硬件平臺、直覺式操作界面、防震防磁設(shè)計(jì)與極低的安裝要求，任何人都可在 30 分鐘內(nèi)上手使用。Phenom Pure 以高成像質(zhì)量、極致易用性和卓越穩(wěn)定性，成為科研、教學(xué)及工業(yè)質(zhì)控中最佳性價(jià)比的臺式掃描電鏡選擇。
為質(zhì)控與研發(fā)打造的自動化臺式掃描電鏡 Phenom XL G3 是 Thermo Scientific 旗下的旗艦級臺式掃描電鏡平臺，基于飛利浦—FEI—賽默飛近 80 年電鏡技術(shù)積淀打造。其穩(wěn)定可靠、易部署、自動化程度高，專為 生產(chǎn)質(zhì)控、高通量檢測與研發(fā)場景 而設(shè)計(jì)。 大倉室設(shè)計(jì)，可容納 36 個樣品，1 分鐘完成裝樣到出圖，自動化、AI 分析、能譜一體化，3000h CeB6 燈絲，平均 5 年更換一次，適用于金屬、電子陶瓷、半導(dǎo)體、粉末、濾膜、電池材料等多行業(yè)。
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