德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM
德國ZEISS蔡司聚焦離子束掃描電鏡Crossbeam 350,Crossbean 550
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡EVO 10
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10
Sigma 300性能特點：
1.ZGGemini鏡筒
2.超高的束流穩(wěn)定性
3.卓 越的低電壓性能
4.In Lens 探測器
5.磁性材料高分辨觀察
6.ding級X射線分析設計
7.便越操作系統(tǒng)設計
8.超大空間，多接口，升級靈活
主機系統(tǒng)：
。GEMINI 鏡筒，基本抽真空系統(tǒng)，帶 EDS、EBSD 和 WDS 接口的標準樣品室，帶有軟件操縱桿的 5 軸馬達自動樣品臺，In-lens SE 探測器，ET-SE 探測器，樣品電流監(jiān)測器，樣品室觀察系統(tǒng)（CCD），Win 7 操作系統(tǒng)。
。 24” 彩色平板顯示器
。帶有旋鈕控制和鍵盤的控制板
。雙操縱桿樣品臺控制器
。5 象限高分辨率背散射電子探測器（用于高分辨率背散射電子成像）
Gemin雙子星FESEM鏡筒集成了以下四大特點：
1.電子束無交叉
2.束流推進器
3.環(huán)形浸沒式探測器
4.電磁/靜電組合物鏡
軟件：
。高級測量軟件
。中心點與中心特征軟件
。雙通道軟件
。漂移校正功能
。魚眼模式
。載物臺優(yōu)中心功能
。多賬戶功能
。16 位灰度存儲軟件
。Gamma/LUT 轉換模塊
。鑷子57° angle, 100mm long, for 12.7mm pin stubs專用鑷子
。單樁樣品座 ?12.7mm x 8mm pin height
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已咨詢3193次德國Zeiss聚焦離子束掃描電鏡
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S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡（簡稱S-4800）為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場，物鏡為半浸沒式。在高加速電壓（15kV）下，S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm，這是目前半浸沒式冷場發(fā)射掃描電鏡所能達到的最高水平。該電鏡在低加速電壓（1kV）下的二次電子圖像分辨率為2nm，這有利于觀察絕緣或導電性差的樣品。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場電鏡SU8000系列高分辨場發(fā)射掃描電鏡，其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm，并且在探測器設計上有新的突破，配置了Lower、Up-per和Top三個Everhart-Thornley型探測器，可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號，實現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結晶襯度和電位襯度的觀測；結合選配的STEM探測器。
日立SU-8010是日立高新技術的SEM的全新品牌，新品牌 "REGULUS系列" 電子光學系統(tǒng)進行了最優(yōu)化處理，使得著陸電壓在1KV時分辨率較前代機型提高了約20％。另外，最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節(jié)放大，并獲得高質量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外，為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發(fā)揮出高性能，還對用戶輔助工能進行了強化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能，多功能，多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設計還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制，簡單化，從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像，除此意外，如果配備能譜分析系統(tǒng)，在進行獲得樣品表面像的時候，還可以對樣品的某個定點位置進行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例，進行擬合處理，可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品，配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制，通過簡單的操作即可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集?？捎糜阡撹F等工業(yè)材料，汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外，SE系列包括4種型號（兩種類型，兩個等級），滿足眾多領域的測試需求。用戶可以根據(jù)實際用途（如微觀結構控制：用于改善電子元件、半導體等材料的功能和性能；異物、缺陷分析：用于提高產(chǎn)品品質）選擇適合的產(chǎn)品。
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ，ZLGemini鏡筒，超高的束流穩(wěn)定性，超高的束流穩(wěn)定性，zhuo越的低電壓性能，In Lens 探測器，磁性材料高分辨觀察，ding級X射線分析設計，便越操作系統(tǒng)設計，超大空間，多接口，升級靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM，利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結構（Z小線寬為10nm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應用于納米器件，光子晶體，低維半導體等前沿領域。
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