DUALBEAM FIB-SEM 顯微鏡 ExSolve Wafer TEM Prep DualB
賽默飛世爾 X 射線光電子能譜儀 ESCALAB QXi X 射線光電子能譜儀微探針
賽默飛(原FEI)Talos F200C TEM透射電子顯微鏡
賽默飛(原FEI)Talos L120C TEM透射電子顯微鏡
賽默飛(原FEI)Helios 5 激光 PFIB
Apreo
功能最為豐富的高性能 SEM
Apreo 復合透鏡結合了靜電和磁浸沒技術,可產(chǎn)生前所未有的高分辨率和材料對比度。
Apreo 是研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺,而不會降低磁性樣品性能。傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 透鏡技術分為兩類:磁浸沒或靜電。FEI S次將兩種技術結合到一個儀器中。這樣做所產(chǎn)生的成效遠遠超過任一種鏡筒的個體性能。兩種技術均使電子束形成細小探針,以提高低電壓下的分辨率,并使信號電子進入鏡筒。通過將磁透鏡和靜電透鏡組合成一個復合透鏡,不但提高了分辨率,還增加了特有的信號過濾選項。靜電-磁復合末級透鏡在 1 kV 電壓下的分辨率為 1.0 nm(無電子束減速或單色器)。
Apreo 擁有透鏡內(nèi)背散射探測器 T1,其位置緊靠樣品以便盡可能多地收集信號,從而確保在很短的時間內(nèi)采集數(shù)據(jù)。與其他背散射探測器不同,這種快速的探測器始終可保證良好的材料對比度,在導航時、傾斜時或工作距離很短時也不例外。在敏感樣品上,探測器的價值凸現(xiàn)出來,即使電流低至幾 pA,它也能提供清晰的背散射圖像。復合末級透鏡通過能量過濾實現(xiàn)更準確的材料對比度以及絕緣樣品的無電荷成像,進一步延伸了 T1 BSE 探測器的潛在價值。它還提供了流行選項來補充其探測能力,例如定向背散射探測器(DBS)、STEM 3+ 和低真空氣體分析探測器 (GAD)。所有這些探測器都擁有duyi無二的軟件控制分割功能,以便根據(jù)需求選擇最有價值的樣品信息。
每個 Apreo 都按標準配備各種用以處理絕緣樣品的策略,包括:高真空技術,例如 SmartSCAN?、漂移補償幀積分(DCFI) 和電荷過濾。對于最有挑戰(zhàn)性的應用,Apreo 可提供電荷緩解策略。其中包括可選的低真空(最高為 500 Pa)策略,通過經(jīng)現(xiàn)場驗證的穿鏡式差分抽氣機構和專用低真空探測器,不但可以緩解任何樣品上的電荷,還能提供的分辨率和較大的分析電流。
隨著分析技術的使用越來越常規(guī)化,Apreo 倉室經(jīng)過全新設計,以便更好地支持不同的配件和實驗。倉室最多容納三個 EDS/WDS 端口,可實現(xiàn)快速敏感的 X 射線測量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并與(冷凍)CL、拉曼、EBIC 和其他技術兼容。
所有這些功能都能通過簡單的樣品處理和熟悉的 xT UI 獲得,節(jié)省了新用戶和專家級用戶的時間。可自定義的用戶界面提供了諸多用戶指導、自動化和遠程操作選項。
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S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡(簡稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場,物鏡為半浸沒式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒式冷場發(fā)射掃描電鏡所能達到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或導電性差的樣品。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場電鏡SU8000系列高分辨場發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測器設計上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個Everhart-Thornley型探測器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號,實現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結晶襯度和電位襯度的觀測;結合選配的STEM探測器。
日立SU-8010是日立高新技術的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學系統(tǒng)進行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時分辨率較前代機型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節(jié)放大,并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外,為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發(fā)揮出高性能,還對用戶輔助工能進行了強化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設計還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進行獲得樣品表面像的時候,還可以對樣品的某個定點位置進行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集??捎糜阡撹F等工業(yè)材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領域的測試需求。用戶可以根據(jù)實際用途(如微觀結構控制:用于改善電子元件、半導體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產(chǎn)品品質(zhì))選擇適合的產(chǎn)品。
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測器,磁性材料高分辨觀察,ding級X射線分析設計,便越操作系統(tǒng)設計,超大空間,多接口,升級靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結構(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應用于納米器件,光子晶體,低維半導體等前沿領域。