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小科普 · 材料
材料在我們的生產(chǎn)生活中占據(jù)著舉足輕重的地位,任何一種技術(shù)的革新都離不開(kāi)材料。一方面,新技術(shù)的實(shí)現(xiàn)需要性能更加優(yōu)異的新材料;另一方面,新技術(shù)又催生了新材料的誕生。從人類原始的新石器時(shí)代、青銅、鐵器時(shí)代到現(xiàn)如今ZJD、Z復(fù)雜的信息時(shí)代莫不如此。毫不夸張的說(shuō):人類科學(xué)的進(jìn)步史就是一部材料進(jìn)步史。
經(jīng)過(guò)大量的研究,人們發(fā)現(xiàn):材料所含離子的種類與含量等方面的差異對(duì)材料性能、生態(tài)環(huán)境以及健康的影響是十分巨大的。因此,離子色譜法作為一種重要的檢測(cè)方法也被引入到材料的檢測(cè)與分析中。
本文為大家簡(jiǎn)單介紹離子色譜法在常見(jiàn)的幾種材料檢測(cè)中的應(yīng)用案例。

01
氮化硅提取液中陰離子的測(cè)定
氮化硅是一種重要的新型結(jié)構(gòu)陶瓷材料。它具有高密度、超硬度、潤(rùn)滑性、耐磨損、耐腐蝕和耐高溫且不易傳熱等優(yōu)點(diǎn),可用于制造軸承、氣輪機(jī)葉片、永.久性模、陶瓷密封環(huán)、等機(jī)械構(gòu)件以及熱電偶管、火箭噴嘴、熔解金屬的坩堝等高溫零部件。
由于氮化硅中陰離子雜質(zhì)尤其是鹵素會(huì)對(duì)相關(guān)接觸部件造成嚴(yán)重腐蝕,從而影響構(gòu)件的機(jī)械強(qiáng)度和密封環(huán)的密封效果,所以對(duì)氮化硅中陰離子雜質(zhì)的準(zhǔn)確測(cè)定具有重要意義。
色譜柱條件
分析柱:SH-G-1+SH-AC-11
流動(dòng)相:14 mM KOH(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:35 ℃
YZ器:SHY-A-6
進(jìn)樣體積:25 μL
前處理:樣品經(jīng)0.22 μm濾膜過(guò)濾后進(jìn)樣分析。
樣品譜圖

▲ 氮化硅提取液中陰離子譜圖

02
碳化硅提取液中陰陽(yáng)離子的測(cè)定
碳化硅(SiC)又名金剛砂,是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑等原料通過(guò)電阻爐高溫冶煉而成。目前ZG工業(yè)生產(chǎn)的碳化硅分為黑色碳化硅和綠色碳化硅兩種,均為六方晶體。碳化硅由化學(xué)性能穩(wěn)定、導(dǎo)熱系數(shù)高、熱膨脹系數(shù)小、耐磨性能好等特點(diǎn),主要有四大應(yīng)用領(lǐng)域,即:功能陶瓷、高級(jí)耐火材料、磨料及冶金原料,高純度碳化硅可制造半導(dǎo)體和碳化硅纖維。碳化硅中的雜質(zhì)陰陽(yáng)離子會(huì)對(duì)其性能產(chǎn)生影響,需要進(jìn)行檢測(cè)以提高純化技術(shù)。
色譜條件
常規(guī)陰離子
分析柱:SH-G-1+SH-AC-11
流動(dòng)相:10 mM KOH(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:45 ℃
YZ器:SHY-A-6
進(jìn)樣體積:25 μL
前處理:樣品稀釋適當(dāng)倍數(shù)過(guò)0.22 μm一次性針頭過(guò)濾器和銀-鈉柱進(jìn)樣分析。
陽(yáng)離子
分析柱:SH-G-1+SH-CC-3L
流動(dòng)相:5.5 mM甲烷磺酸
流速:1.0 mL/min
柱溫:35℃
YZ器:SHY-C-3
進(jìn)樣體積:25 μL
前處理:樣品稀釋適當(dāng)倍數(shù)過(guò)0.22 μm一次性針頭過(guò)濾器進(jìn)樣分析。
樣品譜圖

▲ 碳化硅提取液中陰離子譜圖

▲ 碳化硅提取液中陽(yáng)離子譜圖

03
氧化硅粉末中陰離子的測(cè)定
二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件,是光學(xué)儀器、工藝品和耐火材料的原料,是科學(xué)研究的重要材料。多數(shù)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Χ趸璧募兌扔泻芨咭螅趸璧暮铣煞椒ㄖ饕须x子交換、硅粉法、硫酸法等,均需要加入化學(xué)試劑,因此對(duì)后續(xù)的純化技術(shù)提出較高要求。離子色譜提供了一種快速檢測(cè)二氧化硅中陰離子的方法,可指導(dǎo)生產(chǎn)并對(duì)成品的質(zhì)量進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
色譜條件
分析柱:SH-G-1+SH-AP-1
流動(dòng)相:15 mM KOH(EG)
流速:0.7 mL/min
柱溫:35 ℃
YZ器:SHY-A-6
進(jìn)樣體積:100 μL
前處理:詳見(jiàn)文末左下角“閱讀原文”
樣品譜圖

▲ 氧化硅粉末中陰離子譜圖
結(jié)論
經(jīng)測(cè)試,采用離子色譜法,盛瀚SH-G-1保護(hù)柱和SH-AC-11、SH-CC-3L、SH-AP-1離子色譜柱,可進(jìn)行氮化硅提取液、氧化硅粉末中陰離子的測(cè)定,以及碳化硅提取液中陰陽(yáng)離子的測(cè)定。
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