我們Z近開發(fā)了一個(gè)獨(dú)特的系統(tǒng)，該系統(tǒng)旨在監(jiān)控用于CMP 處理的膠體漿料的 粒徑分布（PSD）的大顆粒尾部?；趩瘟Ｗ庸鈱W(xué)傳感（SPOS）技術(shù)，我們的 AccuSizer 780 / OL 工具可產(chǎn)生具有前所未有的精度和分辨率的異常顆粒的顆粒 計(jì)數(shù)與直徑數(shù)據(jù)，這些異常顆粒可能會(huì)在拋光過(guò)程中在晶片表面造成缺陷，并且 存在的量不一在所有漿液源中與整體方法不同，例如激光衍射（將亞微米范圍內(nèi) 的Mie 散射與大于1 微米的Fraunhofer 衍射結(jié)合在一起），SPOS 技術(shù)僅對(duì)總粒 子數(shù)量的一小部分做出響應(yīng)-通常大于0.5 微米的粒子。但是，與激光衍射不同， SPOS 方法可產(chǎn)生真實(shí)的分布，一次堆積一個(gè)粒子，而沒(méi)有嚴(yán)重困擾激光衍射的 嚴(yán)重偽影。很容易揭示出大粒子離群點(diǎn)（通常是較小的基團(tuán)的團(tuán)聚體）濃度的細(xì) 微變化，這些細(xì)節(jié)對(duì)于評(píng)估CMP 漿料的質(zhì)量至關(guān)重要，通常通過(guò)諸如激光衍射 或超聲衰減之類的整體方法會(huì)完全忽略掉這些細(xì)節(jié).