原位AFM in SEM壓痕儀、AFM
KLA高精度臺階儀Alpha-Step D-600
陰極熒光Sunny-Rainbow陰極熒光成像光譜探測系統(tǒng)
原位MEMS芯片和同步輻射Holder
電鏡原位偏壓加熱系統(tǒng)NHB-SNL原位電化學
LiteScope?掃描探針顯微鏡(SPM),便于集成到各種掃描電子顯微鏡(SEM)中。互補SPM和SEM技術的結(jié)合(CPEM)可以進行復雜的樣品分析,包括表面形貌、機械性能、電性能、化學成分、磁性等的表征。 還能與其他掃描電鏡附件相結(jié)合,如聚焦離子束(FIB)或氣體注入系統(tǒng)(GIS )用于納米/微結(jié)構(gòu)的制備和表面改性可以對裝配結(jié)構(gòu)的快速和簡單的3D檢查。 同時,SPM和SEM測量能夠在同一地點、同一時間、同一協(xié)調(diào)系統(tǒng)進行。
LiteScope?采用關聯(lián)探針和電子顯微鏡技術(CPEM),該技術利用兩種不同的技術對同一物體城鄉(xiāng)的方法。CPEM能夠同時對樣品表面的同一個區(qū)域進行SEM和AFM表征。

LiteScope?通常用于高真空環(huán)境,但也可根據(jù)要求適用于超高真空環(huán)境。
工作溫度:+15°C至+25°C
標準工作壓力:10-5Pa~105Pa
外形尺寸:129 mm x 90 mm x 45-55 mm
掃描面積:22 mm x 11 mm x 8 mm
掃描范圍:100 um x 100 um x 100 um
分辨率: 0.2nm
1D/2D材料
GaAs納米線,在SEM中進行針尖定位,選擇合適的納米線進行相關分析。

生命科學
細胞相關測試、分析及3D圖,生物傳感用石墨烯包裹金納米粒子雜化SEM/AFM表征 。

3D形貌圖和粗糙度/高度/深度圖

AFM/FIB/SEM
用SPM/FIB/SEM-分層法分析集成電路的故障

金納米粒子與石墨烯掩膜的結(jié)合是一種新的制備適用于表面增強拉曼光譜(SER)的活性基底的方法??墒褂肅PEM輕松確定納米顆粒在石墨烯膜下的分布以及表面形貌。雖然LiteScope?SPM(AFM)可以對納米顆粒上的石墨烯層進行表面成像,但SEM可以對石墨烯層下的納米顆粒進行成像。
含HFO2顆粒的W-Cr固溶體退貨后的降解
利用CPEM可以快速、準確地識別掃描電鏡圖像中的形貌和材料對比度,很容易區(qū)分HF顆粒與孔隙。用CPEM技術研究了樣品表面的腐蝕速率。
膠原支架上間充質(zhì)干細胞的研究
利用CPEM,可以同時用電子束和探針掃描同一個細胞并獲得圖像,以及細胞與基質(zhì)的相互作用,這意味著細胞在支架后粘附力擴展和環(huán)境友好。

材料科學
金屬應力和裂紋

材料形貌對比

其他應用

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已咨詢163次AFM-In-SEM
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已咨詢230次In-SEM微納米力學
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已咨詢974次表面成像
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已咨詢1926次表面成像
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已咨詢205次SPM耗材
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已咨詢178次SPM耗材
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已咨詢165次SPM耗材
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已咨詢32次SPM耗材
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化,進行存儲與管理,可建立數(shù)字切片庫,便于培訓、分析、管理等,脫離時間、空間限制。
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電子束曝光一種高分辨率的微細加工技術,廣泛應用于納米科技和半導體制造領域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進行直接寫入,通過改變光刻膠的化學性質(zhì)來形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機(Pharos系列產(chǎn)品), 具有高分辨率、 精準控制和高度自動化的優(yōu)勢, 被廣泛應用于制備半導體芯片、 光子學元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領域, 是進行亞微米至納米級曝光技術研發(fā)的理想工具。
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD,PEALD,與ALA等先進制程。 2. SE series具有高度的改造彈性,但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設計具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國教學儀器設備評比較好獎”,該獎項由國家教育裝備委員會頒發(fā),表彰其在納米教育實驗系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設計、穩(wěn)定性能和在全國高校廣泛應用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮氣發(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗及專業(yè)的售后支持團隊。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實驗室持續(xù)開發(fā)新機型。 在日本、 中國等多國取得多項技術專利。工廠通過ISO9001認證。
較為低的曲率半徑:每根針經(jīng)過質(zhì)檢; 較小探針差異:較為特加工工藝實現(xiàn)精準控制