德國普發(fā)Pfeiffer氦質譜檢漏儀 ASM 192T
德國普發(fā)Pfeiffer氦質譜檢漏儀 ASM 182
伯東公司德國普發(fā)Pfeiffer氦質譜檢漏儀 ASM 142
德國普發(fā)Pfeiffer 多功能 氦質譜檢漏儀ASM 340
氦質譜檢漏儀流量計檢漏|伯東Pfeiffer
伯東公司德國普發(fā)阿爾卡特氦檢工作站 Adixen ASM 1002
阿爾卡特氦檢工作站 Adixen ASM 1002是在生產環(huán)境下，對小型部件進行檢漏測試最理想最標準的解決方案。大規(guī)模生產環(huán)境中，只需不到4秒鐘的時間即可達到1*10-9 mbar.l/s。
阿爾卡特氦檢工作站 Adixen ASM 1002密封式的檢漏程式
阿爾卡特氦檢工作站 Adixen ASM 1002對密封包裝檢漏，可在不到4秒鐘的時間內達到1.10-9 mbar.l/s，使其成為市場上同類型中速度最快的裝置。
阿爾卡特氦檢工作站 Adixen ASM 1002完全自動化，一旦測試腔關閉，測試便自動開始運行。強勁的真空泵裝置排空測試腔，使檢漏裝置得以快速準確的運行。測試結束時，氦檢工作站 ASM 1002會顯示是否超過既定漏率（超過亮紅燈/正常亮綠燈）如果測試零件正常，側室腔自動放氣，腔內氣壓回到大氣壓值并自動打開，以節(jié)約操作者時間。如果測試零件有泄漏，紅燈警告后熄滅。測試腔仍停留在真空狀態(tài)，此時，腔內放氣需要操作者的手動操作，按下控制鍵。因此無需操作者釋讀，同時保證了所有泄露零件都能檢測
檢測時間（漏率值10-9 mbar） | 標準測試腔體（81cc）檢測只需4秒 |
量程范圍 | 2*10-11 到1*10-11 mbar. l/s |
可選一到兩個前級泵 | 25 m3/h(15 cfm) 或 50 m3/h（30 cfm） |
前級泵 | 20 m3/h（12 cfm） |
高真空泵 | 200 l/s 混合泵 |
氦氣抽速 | 4.4 l/s |
能量功耗 | 2.3 KVA |
重量 | 190 kg / 418 lb |
2份軟體： 品質測試生產軟體，標準測漏軟體
3種自動測試腔體：81cc,385cc,2 liters
語音合成系統
內部校對過程自動溫度補償
雙纖維細胞分析儀
帶有印表機介面
低維修和安靜的啟動閥門
RS 232
遙控裝置
3 種質量數可選
阿爾卡特氦檢工作站 Adixen ASM 1002應用：
嚴格密封的電子部件
真空計、感測器
閥門與接頭
真空部件
起搏器與醫(yī)liao器械
食品與藥物包裝的抽樣測試
伯東公司 主要經營產品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的 真空測量(真空計, 真空規(guī)管); 氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空系統以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源.
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VIM-2 優(yōu)勢: 10 mbar（暖容器）~ 5×10?? mbar（低溫容器） 鋰電池供電（>3 小時續(xù)航），藍牙/Win 端遠程操作 無電子穿透真空，抗腐蝕（1.4404/1.4034 不銹鋼） <1% 年漂移率，無需校準 1s 響應（快模式），內置 1023 組數據記錄 1 個讀數頭可匹配多個傳感器，降低部署成本
超高精度：0.1 mbar至1×10?? mbar范圍內達讀數±1% 100%線性壓力讀數（與氣體種類無關） 長期穩(wěn)定性：年漂移率<1.5% 不銹鋼傳感器抗腐蝕與沉積 安全潔凈測量：無污染/無熱輻射/無電離效應
潤滑油
伯東公司日本原裝設計制造離子蝕刻機 IBE. 提供微米級刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復合半導體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料
伯東公司日本原裝進口小型離子蝕刻機, 適用于科研院所, 實驗室研究, 干式制程的微細加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
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上海伯東日本原裝進口適合小規(guī)模量產使用和實驗室研究的離子蝕刻機, 一般通氬氣 Ar, 內部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產生轟擊離子; 終點檢出器采用 Pfeiffer 殘余質譜監(jiān)測當前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
Aston? 特性 實時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝 半導體制造的分子分析原位平臺, 提供實時, 可操作的數據 采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用 可與大批量生產工具完全集成 Aston? 作為一個強大的平臺, 可以取代多種傳統工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
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