EVG850 TB-自動(dòng)化臨時(shí)鍵合系統(tǒng)
EVG520 IS-晶圓鍵合系統(tǒng)
EVG820-層壓系統(tǒng) EVG鍵合機(jī)
ComBond-自動(dòng)化的高真空晶圓鍵合系統(tǒng)
EVG-560 EVG晶圓鍵合自動(dòng)系統(tǒng)
EVG520 IS-晶圓鍵合系統(tǒng)
是單腔或雙腔晶圓鍵合系統(tǒng)(晶圓鍵合機(jī)),用于小批量生產(chǎn)。
一、簡(jiǎn)介
EVG520 IS(晶圓鍵合機(jī))單腔單元可半自動(dòng)操作大200 mm的晶圓,適用于小批量生產(chǎn)應(yīng)用。EVG520 IS(晶圓鍵合機(jī))根據(jù)客戶反饋和EV Group的持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新進(jìn)行了重新設(shè)計(jì),具有EV Group專有的對(duì)稱快速加熱和冷卻卡盤設(shè)計(jì)。諸如獨(dú)立的頂側(cè)和底側(cè)加熱器,高壓鍵合能力以及與手動(dòng)系統(tǒng)相同的材料和工藝靈活性等優(yōu)勢(shì),為所有晶圓鍵合工藝的成功做出了貢獻(xiàn)。
EVG520 IS-晶圓鍵合系統(tǒng)
二、特征
全自動(dòng)處理,手動(dòng)裝卸,包括外部冷卻站
兼容EVG機(jī)械和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)器
單室或雙室自動(dòng)化系統(tǒng)
全自動(dòng)的鍵合工藝執(zhí)行和鍵合蓋移動(dòng)
集成式冷卻站可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量
選項(xiàng):
高真空能力(1E-6毫巴)
可編程質(zhì)量流量控制器
集成冷卻
三、技術(shù)數(shù)據(jù)
(晶圓鍵合機(jī))大接觸力:10、20、60、100 kN
加熱器尺寸:150毫米、200毫米
小基板尺寸:?jiǎn)涡酒?00毫米
真空:標(biāo)準(zhǔn):1E-5 mbar
可選:1E-6 mbar
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報(bào)價(jià):面議
已咨詢382次晶圓鍵合機(jī)
報(bào)價(jià):¥5000000
已咨詢2961次晶圓鍵合機(jī)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢446次晶圓鍵合機(jī)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢167次存儲(chǔ)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢384次晶圓鍵合機(jī)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢619次光刻機(jī)
報(bào)價(jià):¥1
已咨詢1983次臨時(shí)鍵合/解鍵合
報(bào)價(jià):面議
已咨詢386次晶圓鍵合機(jī)
UltraINSP晶圓表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)是表面缺陷檢測(cè)的蕞完善的國(guó)產(chǎn)化替代產(chǎn)品,系統(tǒng)包括四個(gè)模塊可以檢測(cè)所有晶圓表面并同步采集數(shù)據(jù):晶圓正面、背面、邊緣缺陷檢測(cè)模塊;輪廓、量測(cè)和檢查模塊。
系統(tǒng)用于磨片、拋光等前道工藝流程中的晶圓尺寸及形貌檢測(cè),包括TTV,Bow,Warp,TIR等參數(shù),可覆蓋4寸-12寸任何材質(zhì)晶圓的關(guān)鍵尺寸檢測(cè),精度達(dá)國(guó)際水平,產(chǎn)能和經(jīng)濟(jì)效益遠(yuǎn)超國(guó)內(nèi)外產(chǎn)品。
系統(tǒng)可以為各種材質(zhì)薄膜提供高精度的厚度均勻性測(cè)量。使用創(chuàng)新的融合光譜反射技術(shù)、近紅外干涉技術(shù)以及高亮度光源驅(qū)動(dòng)的光譜橢偏儀技術(shù)的多傳感器融合測(cè)量技術(shù),是國(guó)內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)同質(zhì)膜厚全自動(dòng)檢測(cè)的系統(tǒng)。
分析磁膜性能對(duì)磁傳感器的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)至關(guān)重要,WLA-3000自動(dòng)晶圓液位分析儀可以與各種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的自動(dòng)晶圓探針集成,以表征成品器件或測(cè)試結(jié)果(包括橋接配置)的磁性能。
分析磁性薄膜和傳感器的性能對(duì)磁性傳感器的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)至關(guān)重要,ISI的WLA-5000磁性傳感器分析儀結(jié)合了ISI專有的測(cè)量電子設(shè)備、電源、探針卡、控制器和磁鐵,非常適合執(zhí)行這項(xiàng)任務(wù)。
SHB自1976年以來,Instruments一直在生產(chǎn)一系列行業(yè)主導(dǎo)的磁性測(cè)量系統(tǒng)。與其他競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品不同的是,臺(tái)面系列采用最新的全數(shù)字電路和信號(hào)處理技術(shù)進(jìn)行測(cè)量。
美國(guó)Microsense電容式位移傳感器*非接觸式電容式微位移測(cè)量—準(zhǔn)確的電子感應(yīng)技術(shù), 無損樣品測(cè)量。
光學(xué)粗糙度測(cè)試儀WaferMaster WM 300 不像傳統(tǒng)輪廓儀需要長(zhǎng)時(shí)間的垂直高度掃描加上水平拼接以得到3D的表面輪廓進(jìn)行耗時(shí)粗糙度計(jì)算。利用角分辨光散射技術(shù)測(cè)量晶圓表面梯度角計(jì)算的粗糙度,以每秒2000次高速掃描全晶圓表面上面粗糙度,為目前業(yè)界最快全晶圓粗糙度測(cè)量系統(tǒng),可以依各種樣品形狀尺寸客制化量測(cè)探頭以及平臺(tái)解決方案。