德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 192T
德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 182
伯東公司德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 142
德國普發(fā)Pfeiffer 多功能 氦質(zhì)譜檢漏儀ASM 340
氦質(zhì)譜檢漏儀流量計檢漏|伯東Pfeiffer
伯東公司授權(quán)代理德國普發(fā) Pfeiffer 新款高性能堅固耐用氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340,可靠的品質(zhì)保證廣泛的市場應(yīng)用,此款氦質(zhì)譜檢漏儀適用于工業(yè)、分析研究、鍍膜市場等。此款氦質(zhì)譜檢漏儀堅固耐用,抗震性能極強(qiáng),可反復(fù)使用數(shù)年仍保證高精度的檢漏漏率。氦質(zhì)譜檢漏儀緊湊的設(shè)計適合串列生產(chǎn)和持續(xù)工作。此款是 Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀 HLT 560全新升級款。
同系列無油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D(前級泵配備無油干泵)同步上市
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 主要特點(diǎn)
1.前級泵配備抽速高達(dá)15 m3/h 旋片泵(油泵)
2.對氦氣抽速可達(dá) 2.5l/s
3.氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 對氦氣的最小檢測漏率:
真空模式:5 10-13 Pa m3/s
吸qiang模式:5 10-10 Pa m3/s
4.氦質(zhì)譜檢漏儀可定制和可拆卸的操作介面
5.集成SD卡,方便資料處理
6.配件可選有線/無線遙控器/吸槍
7.電壓可選110/130 V 或 200/240 V
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 技術(shù)參數(shù):
氦質(zhì)譜檢漏儀 | ASM 340 |
對氦氣的最小檢測漏率 | 5 10-13 Pa m3/s |
檢測模式 | 真空模式和吸qiang模式 |
檢測氣體 | 4He, 3He, H2 |
啟動時間 | 約3 min |
對氦氣的抽氣速度 | 2.5 l/s |
進(jìn)氣口最da壓力 | 25 hPa |
前級泵抽速 | 15 m3/h |
重量 | 56 kg |
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 尺寸圖:

伯東公司 主要經(jīng)營產(chǎn)品 德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應(yīng)用于各種條件下的 真空測量(真空計, 真空規(guī)管); 氦質(zhì)譜檢漏儀;質(zhì)譜分析儀;真空系統(tǒng)以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機(jī)和美國KRI 離子源.
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VIM-2 優(yōu)勢: 10 mbar(暖容器)~ 5×10?? mbar(低溫容器) 鋰電池供電(>3 小時續(xù)航),藍(lán)牙/Win 端遠(yuǎn)程操作 無電子穿透真空,抗腐蝕(1.4404/1.4034 不銹鋼) <1% 年漂移率,無需校準(zhǔn) 1s 響應(yīng)(快模式),內(nèi)置 1023 組數(shù)據(jù)記錄 1 個讀數(shù)頭可匹配多個傳感器,降低部署成本
超高精度:0.1 mbar至1×10?? mbar范圍內(nèi)達(dá)讀數(shù)±1% 100%線性壓力讀數(shù)(與氣體種類無關(guān)) 長期穩(wěn)定性:年漂移率<1.5% 不銹鋼傳感器抗腐蝕與沉積 安全潔凈測量:無污染/無熱輻射/無電離效應(yīng)
潤滑油
伯東公司日本原裝設(shè)計制造離子蝕刻機(jī) IBE. 提供微米級刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料
伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
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上海伯東日本原裝進(jìn)口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
Aston? 特性 實(shí)時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝 半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺, 提供實(shí)時, 可操作的數(shù)據(jù) 采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用 可與大批量生產(chǎn)工具完全集成 Aston? 作為一個強(qiáng)大的平臺, 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.