捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS 新一代超高分辨鎵離子FIB-SEM
捷克泰思肯 TESCAN AMBER 鎵離子型雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS X 氙等離子源雙束FIB系統(tǒng)
捷克泰思肯 TESCAN AMBER X 高分辨氙離子源雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN MIRA 場發(fā)射掃描電鏡
產(chǎn)品介紹:
TESCAN AMBER X 是wan美結(jié)合了分析型等離子 FIB 和超高分辨(UHR)掃描電鏡的綜合分析平臺,能夠很好的應(yīng)對傳統(tǒng)的 Ga 離子 FIB-SEM 難以完成的困難挑戰(zhàn)。
TESCAN AMBER X 配置了氙(Xe)等離子 FIB 鏡筒和 BrightBeam? 電子鏡筒,能夠同時提供gao效率、大面積樣品刻蝕,以及無漏磁超高分辨成像,適用于各類傳統(tǒng)或新型材料的二維成像以及大尺度的 3D 結(jié)構(gòu)表征。擁有 AMBER X 不僅能夠滿足您現(xiàn)階段對材料探索的需求,也為您將來的研究工作做好充分的準備。
AMBER X 等離子 FIB 不但能輕松應(yīng)對常規(guī)的樣品研磨和拋光工作,而且能快速制備出寬度可達1 毫米的截面。氙等離子束對樣品的損傷最小,且不會導(dǎo)致注入引起的污染和非晶化。氙是一種惰性元素,所以可以實現(xiàn)對鋁等材料進行無污染的樣品制備和加工,不用擔(dān)心傳統(tǒng)鎵離子 FIB 加工時由于鎵離子污染或注入可能導(dǎo)致的微觀結(jié)構(gòu)和/或機械性能改變。
鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測器經(jīng)過優(yōu)化,可以在 FIB-SEM 重合點位置獲得高質(zhì)量的圖像。TESCAN AMBER X 更有利于安裝各類附件的幾何設(shè)計為樣品的綜合分析提供了前所未有的潛力,而且還能夠進行多模態(tài)的 FIB-SEM 層析成像。
TESCAN Essence? 是一款支持用戶可根據(jù)需求自定義界面的模塊化軟件。因此,TESCAN AMBER X 可以輕松的從一個多用戶、多用途的工作平臺轉(zhuǎn)變?yōu)橛糜趃ao效率、大面積 FIB 樣品加工的專用工具。
主要特點:
● gao效率、大面積樣品刻蝕,zui大寬度可達1毫米的截面。
● 無鎵離子污染的樣品加工。
● 無漏磁的場發(fā)射掃描電鏡,實現(xiàn)超高分辨成像和顯微分析。
● 鏡筒內(nèi)二次電子和鏡筒內(nèi)背散射電子探測器。
● 束斑優(yōu)化,可確保gao效率、多模態(tài) FIB-SEM 斷層掃描的效果。
● 超大的視野范圍,便于樣品導(dǎo)航。
● 可輕松操作的模塊化電鏡控制軟件 Essence?。
| (離子光學(xué)系統(tǒng))視野范圍: | 1 mm | (離子光學(xué)系統(tǒng))探針電流: | 1 pA – 2 μA |
| (離子光學(xué)系統(tǒng))分辨率: | <15 nm @ 30 keV | (離子光學(xué)系統(tǒng))發(fā)射源: | 氙等離子 |
| (電子光學(xué)系統(tǒng))視野范圍: | 7 mm @ WD=6 mm, >50 mm @ zui大工作距離 | (電子光學(xué)系統(tǒng))探針電流: | – 400 nA |
| (電子光學(xué)系統(tǒng))分辨率: | 0.9 nm @15 keV | (電子光學(xué)系統(tǒng))發(fā)射源: | 肖特基場發(fā)射 |
| 儀器分類: | FIB-SEM | 價格區(qū)間: | 1000萬-1500萬 |
| 產(chǎn)地: | 進口 |
報價:面議
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報價:面議
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報價:¥10000
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S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡(簡稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場,物鏡為半浸沒式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒式冷場發(fā)射掃描電鏡所能達到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠?。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場電鏡SU8000系列高分辨場發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測器設(shè)計上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個Everhart-Thornley型探測器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號,實現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測;結(jié)合選配的STEM探測器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時分辨率較前代機型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節(jié)放大,并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外,為了能更好的應(yīng)對不同樣品的測試和保持并發(fā)揮出高性能,還對用戶輔助工能進行了強化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進行獲得樣品表面像的時候,還可以對樣品的某個定點位置進行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集??捎糜阡撹F等工業(yè)材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領(lǐng)域的測試需求。用戶可以根據(jù)實際用途(如微觀結(jié)構(gòu)控制:用于改善電子元件、半導(dǎo)體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產(chǎn)品品質(zhì))選擇適合的產(chǎn)品。
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測器,磁性材料高分辨觀察,ding級X射線分析設(shè)計,便越操作系統(tǒng)設(shè)計,超大空間,多接口,升級靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。