捷克泰思肯 TESCAN MIRA 場發(fā)射掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN VEGA 鎢燈絲掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN VEGA 鎢燈絲掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN VEGA COMPACT 鎢燈絲掃描電鏡
捷克泰思肯 集成礦物分析儀 TIMA-X FEG(LM)
產(chǎn)品介紹:
TESCAN MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡,配置有高亮度肖特基場發(fā)射電子槍,在TESCAN 的 Essence? 操作軟件的同一個窗口中實現(xiàn)了 SEM 成像和實時元素分析。這種結(jié)合大大簡化了從樣品中獲取形貌和元素數(shù)據(jù)的過程,從而使得MIRA 成為質(zhì)量控制、失效分析和實驗室常規(guī)材料檢測的有效分析解決方案。
TESCAN MIRA 具有創(chuàng)新的光學(xué)設(shè)計,確保在需要時可以隨時無縫地選擇成像或分析條件,而無需對鏡筒內(nèi)的任何元件重新進行機械對中;借助完全集成的 Essence? EDS 軟件,可以快速、輕松地從成像切換到分析操作模式,一鍵即可實現(xiàn)所有設(shè)置參數(shù)的更改。
主要特點
ü 完全集成的 TESCAN Essence? EDS 分析平臺,可在 Essence? 軟件的同一個窗口中實現(xiàn) SEM 成像和實時元素分析;
ü TESCAN 獨特的無光闌光路設(shè)計及實時電子束追蹤技術(shù)(In-flight Beam Tracing?),可快速獲得zui佳的成像和分析條件;
ü 獨特的大視野光路(Wide Field Optics?)設(shè)計,可實現(xiàn)最小放大倍率低至2倍,因而無需額外的光學(xué)導(dǎo)航相機,即可輕松、精確的對樣品進行導(dǎo)航;
ü 標(biāo)配的 SingleVac? 模式,不導(dǎo)電樣品或電子束敏感樣品無需噴鍍即可在此模式下直接進行觀察;直觀的模塊化 Essence? 軟件,無論用戶的經(jīng)驗水平如何,均可輕松操作;
ü Essence? 3D 防碰撞模型,可確保樣品臺和樣品移動時,安裝在樣品室內(nèi)探測器的安全性;
ü 可選配的鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測器,以及電子束減速技術(shù),更好的提升了低電壓下的成像性能;
ü 標(biāo)準(zhǔn)分析平臺,可選配集成最多種類的探測器和附件(如陰極熒光探測器,水冷背散射電子探測器或拉曼光譜儀等)。
中間鏡設(shè)計
MIRA 的鏡筒中增加了一個特殊的透鏡,使得電子束斑尺寸更小,進而提升大束流下的分辨率。這個獨特的透鏡--中間鏡 (Intermediate Lens?) 結(jié)合電子束追蹤技術(shù)(In-?ight Beam Tracing?),可確保操作者設(shè)定的束流值與真實作用在樣品上的束流相一致。這對于需要大束流下進行的分析應(yīng)用如EDS/EBSD/WDS等,以及必須在相同條件下進行重復(fù)實驗或表征的需求尤其重要。
更多的探測器和附件
TESCAN MIRA 可以安裝各類附件以滿足特定的應(yīng)用需求,同時還可以選配鏡筒內(nèi) SE 和BSE 探測器以及電子束減速技術(shù),進一步拓展了 MIRA 的分析能力,滿足當(dāng)前和未來在亞微米尺度的表征需求。選配鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測器后,即可同時獲得包括樣品室內(nèi)SE、樣品室內(nèi)BSE、鏡筒內(nèi)SE及鏡筒內(nèi)BSE的4種不同襯度信號。電子束減速技術(shù)則可提升其成像能力,尤其是在低電壓下的分辨率。
全新的 EssenceTM 電鏡控制軟件
采用 TESCAN Essence? 多用戶電鏡操作軟件,具有快速搜索、操作步驟撤銷/重做和預(yù)設(shè)參數(shù)等功能,實現(xiàn)更gao效的樣品分析和表征。用戶可以根據(jù)實際操作水平或特殊應(yīng)用需求的不同在軟件中自定義界面布局。另外,Essence? 防碰撞模型軟件虛擬出樣品室內(nèi)部,直觀的顯示樣品室內(nèi)的所有硬件的幾何關(guān)系,樣品臺的大小和位置,以及樣品和安裝的其它附件。
創(chuàng)新的 SingleVac TM 模式
SingleVac? 模式是 TESCAN MIRA 的標(biāo)配功能,TESCAN 已為此模式預(yù)設(shè)了真空值,荷電樣品無需噴鍍也可以使用背散射電子探測器直接觀察。同時還可以選配 UniVac? 模式,該模式下可連續(xù)調(diào)節(jié)真空度zui高至 700 Pa,用于極端放電、放氣及電子束敏感樣品的二次電子和背散射電子成像。
軟件:
· 測量軟件, 公差測量軟件
· 圖像處理
· 預(yù)設(shè)參數(shù)
· 直方圖及LUT
· SharkSEM? 基礎(chǔ)版 (遠程控制)
· 3D 防碰撞模型軟件
· 對象區(qū)域
· 光電聯(lián)用
· 定時關(guān)機
· CORAL?(用于生命科學(xué)的電鏡模塊)
· 自動拼圖軟件
· 樣品觀察
· TESCAN Flow? (離線處理軟件)
根據(jù)實際配置和需求
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已咨詢8031次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
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S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡(簡稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場,物鏡為半浸沒式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒式冷場發(fā)射掃描電鏡所能達到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠贰-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場電鏡SU8000系列高分辨場發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測器設(shè)計上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個Everhart-Thornley型探測器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號,實現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測;結(jié)合選配的STEM探測器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時分辨率較前代機型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節(jié)放大,并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外,為了能更好的應(yīng)對不同樣品的測試和保持并發(fā)揮出高性能,還對用戶輔助工能進行了強化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進行獲得樣品表面像的時候,還可以對樣品的某個定點位置進行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集??捎糜阡撹F等工業(yè)材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領(lǐng)域的測試需求。用戶可以根據(jù)實際用途(如微觀結(jié)構(gòu)控制:用于改善電子元件、半導(dǎo)體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產(chǎn)品品質(zhì))選擇適合的產(chǎn)品。
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測器,磁性材料高分辨觀察,ding級X射線分析設(shè)計,便越操作系統(tǒng)設(shè)計,超大空間,多接口,升級靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。