捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS 新一代超高分辨鎵離子FIB-SEM
捷克泰思肯 TESCAN AMBER 鎵離子型雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS X 氙等離子源雙束FIB系統(tǒng)
捷克泰思肯 TESCAN AMBER X 高分辨氙離子源雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN MIRA 場發(fā)射掃描電鏡
產(chǎn)品介紹:
TESCAN AMBER 是TESCAN第四代 FIB-SEM 的新成員,是一款超高分辨雙束 FIB-SEM 系統(tǒng),它可以提供無與倫比的圖像質量,具有強大的擴展分析能力,并能以ji佳的精度、效率完成復雜的納米加工和操作,可滿足現(xiàn)今工業(yè)研發(fā)和學術界研究的所有需求。
TESCAN AMBER FIB-SEM的優(yōu)點:
新一代鏡筒內電子加速、減速技術,保證了復雜樣品的低電壓高分辨觀測能力
S次配置的靜電-電磁復合物鏡,物鏡無磁場外泄,實現(xiàn)磁性樣品高分辨成像及分析
配置4個新一代探測器,可實現(xiàn)9種圖像觀測,對樣品信息的采集更加全面
配置大型樣品室,有超過20個擴展接口,為原位觀測、分析創(chuàng)造了良好的工作環(huán)境
可以配置TESCAN自有或第三方的多種擴展分析附件,并du家實現(xiàn)與TOF-SIMS、Raman聯(lián)用
新一代操作軟件和自動功能,F(xiàn)IB鏡筒具有全自動的離子鏡筒對中,極大簡化了操作
新一代 Orage? Ga FIB鏡筒,適用于各類具有挑戰(zhàn)性的納米加工任務
TESCAN AMBER 配置了zui新的 BrightBeam? 鏡筒,實現(xiàn)了無磁場超高分辨成像,可以zui大化的實現(xiàn)各種分析,包括磁性樣品的分析。新型鏡筒中的電子光路設計增強了低能量電子成像分辨率,特別適合對電子束敏感樣品和不導電樣品的分析。創(chuàng)新的 Orage? Ga FIB 鏡筒配有zui先進的離子槍和離子光學鏡筒,使得TESCAN AMBER成為了世界ding級的樣品制備和納米圖形成型的儀器。
TESCAN AMBER 束流可達100nA,具有超快速的加工能力,新穎的 SmartMill 高速切割功能,使得加工效率提升一倍。
TESCAN AMBER 離子能量zui低可達500eV,擁有更優(yōu)秀的低壓樣品制備能力,可以快速制備無損超薄TEM樣品。
可以配置TESCAN自有或第三方的多種擴展分析附件,并du家實現(xiàn)與TOF-SIMS、Raman一體化。
新一代OptiGIS?氣體注入系統(tǒng)
TESCAN AMBER 可配置zui新的多種探測器,包括透鏡內Axial detector 以及 Multidetector,可選擇不同角度和不同能量來收集信號,體現(xiàn)更多種類的信息,同時獲得更好的表面靈敏度和對比度。TESCAN AMBER 有兩種氣體注入系統(tǒng)可供選擇,標準的5針-GIS和新一代OptiGIS單針-GIS,單針的OptiGIS支持通過更換氣罐來更換化學氣體,避免了以往多針氣體注入系統(tǒng)樣品倉內占用空間大的問題。
兩種氣體注入系統(tǒng)均可以選擇多種沉積氣體,其中W、Pt、C等用于導電材料沉積,SiOx用于絕緣材料沉積,XeF2、H2O等用于增強刻蝕,或其它定制氣體。
新一代Essence?操作軟件,更簡單、gao效的操作平臺
TESCAN AMBER 可配置zui新的多種探測器新操作軟件極大簡化了用戶界面,能快速訪問各主要功能,減少了繁瑣的下單菜單操作,并優(yōu)化了操作流程向導,易于學習,兼容多用戶需求,可根據(jù)工作需要定制操作界面。
新穎的樣品室內3D空間位置和移動軌跡模擬功能,可避免誤操作,造成碰撞。
集成多項創(chuàng)新性設計,拓展新應用領域的利器
TESCAN AMBER 可配置zui新的多種探測器,集成了BrightBeam? SEM鏡筒、Orage? Ga-FIB鏡筒、OptiGIS氣體注入系統(tǒng)等多項創(chuàng)新設計,在高分辨能力、原位應用擴展能力和分析擴展能力方面達到了業(yè)內ding級水平,此外新一代操作流程和軟件也給使用者帶來更舒適、gao效的體驗。
* TESCAN AMBER 是 S8000G 升級機型。
報價:面議
已咨詢5582次聚焦離子束顯微鏡
報價:面議
已咨詢8031次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報價:面議
已咨詢5819次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報價:面議
已咨詢5176次聚焦離子束顯微鏡
報價:面議
已咨詢5945次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報價:面議
已咨詢5530次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報價:¥10000
已咨詢1168次雙束聚焦掃描電鏡FIB-SEM
報價:面議
已咨詢5316次聚焦離子束顯微鏡
S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡(簡稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場,物鏡為半浸沒式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒式冷場發(fā)射掃描電鏡所能達到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或導電性差的樣品。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場電鏡SU8000系列高分辨場發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測器設計上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個Everhart-Thornley型探測器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號,實現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結晶襯度和電位襯度的觀測;結合選配的STEM探測器。
日立SU-8010是日立高新技術的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學系統(tǒng)進行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時分辨率較前代機型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節(jié)放大,并獲得高質量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外,為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發(fā)揮出高性能,還對用戶輔助工能進行了強化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設計還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進行獲得樣品表面像的時候,還可以對樣品的某個定點位置進行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集??捎糜阡撹F等工業(yè)材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領域的測試需求。用戶可以根據(jù)實際用途(如微觀結構控制:用于改善電子元件、半導體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產(chǎn)品品質)選擇適合的產(chǎn)品。
德國Zeiss 場發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測器,磁性材料高分辨觀察,ding級X射線分析設計,便越操作系統(tǒng)設計,超大空間,多接口,升級靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結構(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應用于納米器件,光子晶體,低維半導體等前沿領域。