捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS 新一代超高分辨鎵離子FIB-SEM
捷克泰思肯 TESCAN AMBER 鎵離子型雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS X 氙等離子源雙束FIB系統(tǒng)
捷克泰思肯 TESCAN AMBER X 高分辨氙離子源雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN MIRA 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
產(chǎn)品介紹:
TESCAN SOLARIS X 是一款氙(Xe)等離子超高分辨雙束 FIB-SEM 系統(tǒng),配置新穎的 TriglavTM 超高分辨率電子鏡筒以及zui新款的 iFIB+TM 離子鏡筒,它的超高分辨表征能力和無與倫比的樣品制備效率,非常適合于材料、生命及半導(dǎo)體領(lǐng)域分析表征中zui具挑戰(zhàn)性的大體積三維樣品的分析工作。
TESCAN SOLARIS X 配置的 TriglavTM 超高分辨率電子鏡筒,同時(shí)使用了全新的 TriLensTM 三透鏡系統(tǒng)以及gao效的 TriSETM 和 TriBETM 探測(cè)器系統(tǒng),能夠提供zhuo越的表面靈敏度和襯度圖像,實(shí)現(xiàn)對(duì)電子束高敏材料或不導(dǎo)電材料納米特征的觀察。
TESCAN SOLARIS X 是半導(dǎo)體和材料表征中zui具挑戰(zhàn)性的物理失效分析應(yīng)用的平臺(tái),具有極高的精度和極高的效率。 它不但提供了納米尺寸結(jié)構(gòu)分析所必需的高分辨率和表面靈敏度,為大體積 3D 樣品特性分析保證zui佳條件。同時(shí),它還提供非凡的 FIB 功能,可實(shí)現(xiàn)精確、無損的超大面積加工,包括封裝技術(shù)和光電器件的橫截面加工。
TESCAN SOLARIS X Xe Plasma FIB-SEM 主要優(yōu)勢(shì):
突出特點(diǎn)
新型 iFIB+? Xe 等離子 FIB 鏡筒可提供高達(dá) 2 μA 的超高離子束束流,并保持束斑質(zhì)量,從而縮短銑削任務(wù)的總時(shí)間。

圖(左):SiAlON - 石墨烯樣品的三維重構(gòu)圖像,使用 In-Beam f-BSE 探測(cè)器逐層成像,該樣品的 FIB-SEM 層析成像由 1339 層組成,重構(gòu)的尺寸為 22×22.3×66.9 μm。
圖(右):使用 Xe 等離子體 FIB 從 DRAM 65 nm節(jié)點(diǎn)上制備出的 80 nm 厚度的 TEM 樣品,STEM-BF 高倍圖像。
* 新型 iFIB+? Xe 等離子 FIB 鏡筒具有無與倫比的視野,可實(shí)現(xiàn)極大面積的截面加工
新型 iFIB 鏡筒具有等離子 FIB-SEM 市場(chǎng)中zui大的視場(chǎng)(FoV)。在30 keV 下zui大視場(chǎng)范圍超過 1 mm,結(jié)合高離子束流帶來的超高濺射速率,可在幾個(gè)小時(shí)之內(nèi)完成截面寬度達(dá) 1 mm 的電子封裝技術(shù)和其他大體積(如 MEMS 和顯示器)樣品加工。這是簡(jiǎn)化復(fù)雜物理失效分析工作流程的zui佳解決方案。

圖:OLED 顯示屏,橫截面長(zhǎng)度為 1086 μm,視野范圍 1.26 mm
新型 iFIB+? Xe 等離子 FIB 離子束流強(qiáng)度可調(diào)范圍大,可在一臺(tái)機(jī)器中實(shí)現(xiàn)廣泛的應(yīng)用:大電流可實(shí)現(xiàn)快速銑削速率,適用于大體積樣品去層;中等電流適用于大體積 FIB 斷層掃描;低束流用于 TEM 薄片拋光;超低束流用于無損拋光和納米加工。
快速、gao效、高性能的氣體注入系統(tǒng)(GIS)對(duì)于所有 FIB 應(yīng)用都是必不可少的。新的 OptiGIS? 具有所有這些品質(zhì),TESCAN SOLARIS X 可以配備多達(dá) 6 個(gè) OptiGIS 單元,或者可選配一個(gè)在線多噴嘴 5-GIS 系統(tǒng)。此外,不同的專有氣體化學(xué)品和經(jīng)過驗(yàn)證的配方可用于封裝技術(shù)的物理失效分析。
新型 iFIB+ 鏡筒配有超穩(wěn)定的高壓電源和精確的壓電驅(qū)動(dòng)光闌,可在 FIB 預(yù)設(shè)值之間快速切換。此外,半自動(dòng)束斑優(yōu)化向?qū)г试S用戶輕松選擇zui佳束斑,以優(yōu)化特定應(yīng)用的 FIB 銑削條件。
與 Ga 離子相比,Xe 離子的離子注入范圍和相互作用體積明顯更小,因此帶來的非晶化損傷也更小,這在制備 TEM 樣品薄片時(shí)尤其重要。此外,Xe 離子的惰性特性可防止研磨樣品的原子形成金屬化合物,這可能導(dǎo)致樣品物理性質(zhì)的變化,從而干擾電測(cè)量或其它分析。
由 TriSE? 和 TriBE? 組成的多探測(cè)器系統(tǒng),可收集不同角度的 SE 和 BSE 信號(hào),以獲得樣品的zui大信息。
新一代 Triglav? 鏡筒內(nèi)探測(cè)器系統(tǒng)經(jīng)過優(yōu)化,信號(hào)檢測(cè)效率提高了三倍。此外,增加的能量過濾功能,可以對(duì)軸向 BSE 信號(hào)過濾采集。通過選擇性地收集低能量軸向 BSE,實(shí)現(xiàn)用不同的襯度來增強(qiáng)表面靈敏度。
鏡筒內(nèi)探測(cè)器系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)快速圖像采集,結(jié)合 Xe 等離子體 FIB 的高濺射速率,可實(shí)現(xiàn) 3D 微量分析的超快速數(shù)據(jù)采集。EDS 和 EBSD 數(shù)據(jù)可以在 FIB-SEM 斷層掃描期間同時(shí)獲得。使用專用軟件進(jìn)行后處理,可以獲得 3D 重建,實(shí)現(xiàn)整個(gè)焊球、TSV、金屬合金等樣品的獨(dú)特微觀結(jié)構(gòu),成分和晶體學(xué)信息。
新一代 Triglav? 還具有自適應(yīng)束斑優(yōu)化功能,可提高大束流下的分辨率。這有利于快速實(shí)現(xiàn) EDS,WDS 和 EBSD 等分析技術(shù)。
Triglav? SEM 鏡筒結(jié)合新型肖特基 FE 槍,可實(shí)現(xiàn)高達(dá) 400 nA 的電子束流,并實(shí)現(xiàn)束流快速調(diào)整。In-Flight Beam Tracing? 功能可以實(shí)現(xiàn)束流和束斑優(yōu)化,滿足微區(qū)分析的zui佳條件。
得益于zui佳的 60° 物鏡的幾何設(shè)計(jì)和大樣品腔室,可實(shí)現(xiàn)對(duì) 6“ 和 8”晶圓任意位置的 SEM 和 FIB 分析。
新的 TESCAN Essence? 軟件平臺(tái)是一個(gè)優(yōu)秀的多用戶界面軟件,可以快速方便地訪問主要功能。用戶界面易于學(xué)習(xí),并可實(shí)現(xiàn)用戶定制,以zui好地適應(yīng)特定的應(yīng)用程序和用戶的技能水平以及使用習(xí)慣。各種軟件模塊,向?qū)Ш土鞒淌顾?FIB-SEM 應(yīng)用程序都能為新手和專家用戶提供輕松,流暢的體驗(yàn),從而提高生產(chǎn)力并有助于提高實(shí)驗(yàn)室的效率。新的 TESCAN Essence? 還提供先進(jìn)的 DrawBeam? 矢量掃描發(fā)生器,用于快速精確的 FIB 加工和電子束光刻。

* TESCAN SOLARIS X 是 S9000X 的升級(jí)機(jī)型。
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5316次聚焦離子束顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5176次聚焦離子束顯微鏡
報(bào)價(jià):¥10000000
已咨詢420次FIB 聚焦離子束顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5581次聚焦離子束顯微鏡
報(bào)價(jià):¥10000
已咨詢910次雙束聚焦掃描電鏡FIB-SEM
報(bào)價(jià):面議
已咨詢8031次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5819次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報(bào)價(jià):¥8000000
已咨詢391次FIB 聚焦離子束顯微鏡
S-4800型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(簡(jiǎn)稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場(chǎng),物鏡為半浸沒式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒式冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡所能達(dá)到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠?。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場(chǎng)電鏡SU8000系列高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測(cè)器設(shè)計(jì)上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個(gè)Everhart-Thornley型探測(cè)器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號(hào),實(shí)現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測(cè);結(jié)合選配的STEM探測(cè)器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時(shí)分辨率較前代機(jī)型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場(chǎng)電子槍可將樣品的細(xì)節(jié)放大,并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外,為了能更好的應(yīng)對(duì)不同樣品的測(cè)試和保持并發(fā)揮出高性能,還對(duì)用戶輔助工能進(jìn)行了強(qiáng)化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計(jì)還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡(jiǎn)單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進(jìn)行獲得樣品表面像的時(shí)候,還可以對(duì)樣品的某個(gè)定點(diǎn)位置進(jìn)行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進(jìn)行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡(jiǎn)單的操作即可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集??捎糜阡撹F等工業(yè)材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(hào)(兩種類型,兩個(gè)等級(jí)),滿足眾多領(lǐng)域的測(cè)試需求。用戶可以根據(jù)實(shí)際用途(如微觀結(jié)構(gòu)控制:用于改善電子元件、半導(dǎo)體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產(chǎn)品品質(zhì))選擇適合的產(chǎn)品。
德國(guó)Zeiss 場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測(cè)器,磁性材料高分辨觀察,ding級(jí)X射線分析設(shè)計(jì),便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì),超大空間,多接口,升級(jí)靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。