WinSPM EDU掃描探針顯微鏡教學(xué)實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)
電鏡原位原子力 EM-AFM 電鏡原位原子力顯微鏡
電學(xué)原子力 Nano observer 電學(xué)原子力顯微鏡
可旋轉(zhuǎn)顯微鏡 NX-3DM 可旋轉(zhuǎn)全自動原子力顯微鏡
全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡
在同級產(chǎn)品中,Park XE7 能夠帶來納米級分辨率的測量效果。得益于原子力顯微鏡架構(gòu),即立的 XY 軸和 Z 軸柔性掃描器,XE7 能夠?qū)崿F(xiàn)平滑、正交且線性的掃描測量,從而精確成像和測量樣品的特征。此外,Park 的True Non-Contact? 模式可以使探針可以在多次掃描后圖像的分辨率仍不會受影響。
Park XE7 擁有簡潔的圖形用戶界面和自動化工具,即便是初學(xué)者也可以快速地完成對樣品的掃描。無論是預(yù)準(zhǔn)直探針、簡單的樣品和探針更換、輕松的激光準(zhǔn)直、自上而下的同軸視角以及用戶友好型掃描控制和軟件處理,XE7 能夠全力推動研究生產(chǎn)力的提高。
Park XE7 中所搭載的 True Non-Contact? 模式讓用戶無需頻繁更換昂貴的探針尖端,并且它配有多功能的掃描模式,兼容性較為佳,讓您可隨時(shí)升級系統(tǒng)功能,從而延長產(chǎn)品的使用壽命。
特的產(chǎn)品特點(diǎn)
1)Smartscan智能掃描模式,“1,2,3”點(diǎn)擊即可實(shí)現(xiàn)成像
2)Pinpoint Nanomechanical力控出圖模式,更優(yōu)越的力學(xué)形貌成像及各種電學(xué)測試
3)強(qiáng)大的內(nèi)置集成軟件系統(tǒng),自帶LFM/液相AFM/MFM/EFM/KPFM/Force Curve軟件模式
技術(shù)特點(diǎn)
1. XY 軸掃描器含有對稱的二維柔性和高強(qiáng)度壓電疊堆,可在保持平面外運(yùn)動少的情況下,實(shí)現(xiàn)高正交運(yùn)動以及納米級樣品掃描下的高響應(yīng)度。緊湊且堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)是為了低噪聲高速伺服回應(yīng)而設(shè)計(jì)的;
2. Z 軸掃描范圍可從標(biāo)準(zhǔn)的12 μm增至40μm(選購遠(yuǎn)距離 Z 軸掃描器)
3. 燕尾式軌道設(shè)計(jì),輕松更換原子力顯微鏡鏡頭。
4. 在手動 XY 軸樣品臺的控制下,樣品的測量定位變得簡單。XY 軸樣品臺的行程范圍是13 mm x 13 mm;
5. 原子力顯微鏡的納米級信號是由高性能的 Park XE 電子控制器所控制和處理的。憑借著低噪聲設(shè)計(jì)和高速處理單元,Park XE 電子控制器成功實(shí)現(xiàn)了True Non-Contact? 模式,這是納米級成像和電壓電流測量的必要選擇。
主要功能模式
標(biāo)準(zhǔn)成像,力學(xué)測試、機(jī)械性能,化學(xué)性能、電性能,光性能(TERS)、熱性能等。
Park XE7不同的選項(xiàng)適合于多種的研究,以下對石墨烯不同性能的測試:

納米材料的光譜學(xué)研究

報(bào)價(jià):面議
已咨詢221次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢186次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢205次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢226次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢234次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢281次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢332次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢2609次
報(bào)價(jià):面議
已咨詢2257次
報(bào)價(jià):面議
已咨詢234次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢1878次掃描探針顯微鏡SPM (原子力顯微鏡)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢1972次表面成像
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化,進(jìn)行存儲與管理,可建立數(shù)字切片庫,便于培訓(xùn)、分析、管理等,脫離時(shí)間、空間限制。
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化,進(jìn)行存儲與管理,可建立數(shù)字切片庫,便于培訓(xùn)、分析、管理等,脫離時(shí)間、空間限制。
將傳統(tǒng)玻片數(shù)字化,進(jìn)行存儲與管理,可建立數(shù)字切片庫,便于培訓(xùn)、分析、管理等,脫離時(shí)間、空間限制。
電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù),廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進(jìn)行直接寫入,通過改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機(jī)(Pharos系列產(chǎn)品), 具有高分辨率、 精準(zhǔn)控制和高度自動化的優(yōu)勢, 被廣泛應(yīng)用于制備半導(dǎo)體芯片、 光子學(xué)元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域, 是進(jìn)行亞微米至納米級曝光技術(shù)研發(fā)的理想工具。
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD,PEALD,與ALA等先進(jìn)制程。 2. SE series具有高度的改造彈性,但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國教學(xué)儀器設(shè)備評比較好獎(jiǎng)”,該獎(jiǎng)項(xiàng)由國家教育裝備委員會頒發(fā),表彰其在納米教育實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計(jì)、穩(wěn)定性能和在全國高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮?dú)獍l(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊(duì)。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實(shí)驗(yàn)室持續(xù)開發(fā)新機(jī)型。 在日本、 中國等多國取得多項(xiàng)技術(shù)專利。工廠通過ISO9001認(rèn)證。
較為低的曲率半徑:每根針經(jīng)過質(zhì)檢; 較小探針差異:較為特加工工藝實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制