德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 192T
德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 182
伯東公司德國普發(fā)Pfeiffer氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 142
德國普發(fā)Pfeiffer 多功能 氦質(zhì)譜檢漏儀ASM 340
氦質(zhì)譜檢漏儀流量計(jì)檢漏|伯東Pfeiffer
移動型氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390, ASM 392
上海伯東代理德國普發(fā) Pfeiffer 移動型氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390, ASM 392 全新上市!ASM 39X 系列是針對大型檢漏部件設(shè)計(jì)研發(fā), 檢漏儀配有干式非接觸式前級真空泵和渦輪分子泵, 檢漏儀 ASM 392 內(nèi)置2臺渦輪分子泵, 可以加速檢漏流程, 降低生產(chǎn)設(shè)備的停機(jī)時(shí)間
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390, ASM 392 優(yōu)勢:
1. 強(qiáng)大的抽空能力
2. 極短的測試時(shí)間,
3. 大尺寸彩色觸摸屏, 無需任何工具即可完全旋轉(zhuǎn)和拆卸
4. 符合人體工學(xué)設(shè)計(jì), 移動性強(qiáng)
5. 通過 CE 認(rèn)證, ETL 認(rèn)證, UL61010 合規(guī), 完全符合 Semi S2 標(biāo)準(zhǔn)
6. 可用于半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)和平板顯示器行業(yè)以及其他要求極高的應(yīng)用
上海伯東 Pfeiffer 移動型氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 390, ASM 392 與 ASM 380 技術(shù)參數(shù)對比:
型號 | ASM 390 | ASM 392 | ASM 380 已停產(chǎn) |
檢測氣體 | 4He, 3He, H2 | ||
最 小檢測漏率 | 真空模式: 1X10-12 mbar l/s | ||
對氦氣的抽速 | 10 l/s | 25 l/s, 內(nèi)置2臺分子泵 | 7 l/s |
前級泵抽速 | 35 m3/h | ||
進(jìn)氣口最 大壓力 | 20 mbar | 20 mbar | 15 mbar |
無校準(zhǔn)的啟動時(shí)間(20°C) | 2 min | 2 min | < 4.5 min |
進(jìn)氣口 | DN 40 ISO-KF | ||
響應(yīng)時(shí)間 | < 1 s | ||
Interface, 選配 | RS-232, I/O, Ethernet | ||
噪音 | ≤ 55 dB (A) | ≤ 55 dB (A) | 53 dB (A) |
重量 | 125 kg | 130 kg | 110 kg |
尺寸(LxWxH) | 1072 x 455 x 1025 mm | 1072 x 455 x 1025 mm | 1065 X 455 X 1025 mm |
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上海伯東: 賈女士
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VIM-2 優(yōu)勢: 10 mbar(暖容器)~ 5×10?? mbar(低溫容器) 鋰電池供電(>3 小時(shí)續(xù)航),藍(lán)牙/Win 端遠(yuǎn)程操作 無電子穿透真空,抗腐蝕(1.4404/1.4034 不銹鋼) <1% 年漂移率,無需校準(zhǔn) 1s 響應(yīng)(快模式),內(nèi)置 1023 組數(shù)據(jù)記錄 1 個(gè)讀數(shù)頭可匹配多個(gè)傳感器,降低部署成本
超高精度:0.1 mbar至1×10?? mbar范圍內(nèi)達(dá)讀數(shù)±1% 100%線性壓力讀數(shù)(與氣體種類無關(guān)) 長期穩(wěn)定性:年漂移率<1.5% 不銹鋼傳感器抗腐蝕與沉積 安全潔凈測量:無污染/無熱輻射/無電離效應(yīng)
潤滑油
伯東公司日本原裝設(shè)計(jì)制造離子蝕刻機(jī) IBE. 提供微米級刻蝕, 均勻性: ≤±5%, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料
伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
伯東公司日本原裝進(jìn)口小型離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.
上海伯東日本原裝進(jìn)口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī), 一般通氬氣 Ar, 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)生轟擊離子; 終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余質(zhì)譜監(jiān)測當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.
Aston? 特性 實(shí)時(shí)過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝 半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺, 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù) 采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用 可與大批量生產(chǎn)工具完全集成 Aston? 作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺, 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.