iFocus晶圓檢測系統(tǒng)
LODAS? – AI50/100Photomask Blanks缺陷檢查裝置
LODAS? – BI8Photomask Blanks缺陷檢查裝置
LODAS? – BI12GlassWafe缺陷檢查裝置
LODAS? – LI
產(chǎn)品介紹:
iFocus是一款用于晶圓外觀缺陷檢測設(shè)備,利用STI的2D/3D視覺檢測系統(tǒng),采用雙2D Camera同時(shí)采集亮區(qū)和暗區(qū)照片分析特征缺陷,雙2D有動態(tài) 雙影像處理的能力,有更高的處理量,實(shí)現(xiàn)拓展檢測能力的單次掃描(與多通道掃描相比,速度提升40%以上);True 3D技術(shù),可以精確量測Bumping高度,Bumping共面性等特征。可適用于EWLB/CMOS/MEMS/LED/LENS/GLASS WAFER/GAS WAFER/COG等產(chǎn)品外觀檢測。iFocus能夠利用邊緣檢測計(jì)算技術(shù)進(jìn)行Chipping缺陷檢測,邊緣檢測計(jì)算不同于有效區(qū)域檢測的參數(shù)模式來進(jìn)行匹配,通過邊緣檢測測量,軟體系統(tǒng)能夠準(zhǔn)去的定位邊緣并有效利用公差檢測,邊緣檢測計(jì)算還可以減少優(yōu)于沿切割道的測試模式造成的過殺。

報(bào)價(jià):面議
已咨詢414次雙2D AOI系統(tǒng)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢405次全自動AOI系統(tǒng)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢355次全自動測量機(jī)臺
報(bào)價(jià):面議
已咨詢1768次德國 KSI超聲波掃描顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢1182次參比光譜橢偏儀
報(bào)價(jià):面議
已咨詢277次原子力顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢6140次量測儀器
報(bào)價(jià):面議
已咨詢382次可視化顆粒檢測
UltraINSP晶圓表面缺陷檢測系統(tǒng)是表面缺陷檢測的蕞完善的國產(chǎn)化替代產(chǎn)品,系統(tǒng)包括四個模塊可以檢測所有晶圓表面并同步采集數(shù)據(jù):晶圓正面、背面、邊緣缺陷檢測模塊;輪廓、量測和檢查模塊。
系統(tǒng)用于磨片、拋光等前道工藝流程中的晶圓尺寸及形貌檢測,包括TTV,Bow,Warp,TIR等參數(shù),可覆蓋4寸-12寸任何材質(zhì)晶圓的關(guān)鍵尺寸檢測,精度達(dá)國際水平,產(chǎn)能和經(jīng)濟(jì)效益遠(yuǎn)超國內(nèi)外產(chǎn)品。
系統(tǒng)可以為各種材質(zhì)薄膜提供高精度的厚度均勻性測量。使用創(chuàng)新的融合光譜反射技術(shù)、近紅外干涉技術(shù)以及高亮度光源驅(qū)動的光譜橢偏儀技術(shù)的多傳感器融合測量技術(shù),是國內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)同質(zhì)膜厚全自動檢測的系統(tǒng)。
分析磁膜性能對磁傳感器的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)至關(guān)重要,WLA-3000自動晶圓液位分析儀可以與各種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的自動晶圓探針集成,以表征成品器件或測試結(jié)果(包括橋接配置)的磁性能。
分析磁性薄膜和傳感器的性能對磁性傳感器的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)至關(guān)重要,ISI的WLA-5000磁性傳感器分析儀結(jié)合了ISI專有的測量電子設(shè)備、電源、探針卡、控制器和磁鐵,非常適合執(zhí)行這項(xiàng)任務(wù)。
SHB自1976年以來,Instruments一直在生產(chǎn)一系列行業(yè)主導(dǎo)的磁性測量系統(tǒng)。與其他競爭產(chǎn)品不同的是,臺面系列采用最新的全數(shù)字電路和信號處理技術(shù)進(jìn)行測量。
美國Microsense電容式位移傳感器*非接觸式電容式微位移測量—準(zhǔn)確的電子感應(yīng)技術(shù), 無損樣品測量。
光學(xué)粗糙度測試儀WaferMaster WM 300 不像傳統(tǒng)輪廓儀需要長時(shí)間的垂直高度掃描加上水平拼接以得到3D的表面輪廓進(jìn)行耗時(shí)粗糙度計(jì)算。利用角分辨光散射技術(shù)測量晶圓表面梯度角計(jì)算的粗糙度,以每秒2000次高速掃描全晶圓表面上面粗糙度,為目前業(yè)界最快全晶圓粗糙度測量系統(tǒng),可以依各種樣品形狀尺寸客制化量測探頭以及平臺解決方案。