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摘要：用ARIDUS膜去溶劑化進(jìn)樣器，在ICPMS的標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)(STD)和冷焰狀態(tài)(PS)測(cè)定電子級(jí)高純過氧化氫中的34個(gè)痕量金屬雜質(zhì)，用銦作內(nèi)標(biāo)可補(bǔ)償基效應(yīng)，方法檢出限為0．1～70ng／L，加標(biāo)回收率為9O ～l1O ，長(zhǎng)時(shí)間相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)小于5 ，ICPMS測(cè)定結(jié)果與ICP光譜測(cè)定結(jié)果基本一致，ICPMS提高了分析的準(zhǔn)確性和工作效率關(guān)鍵詞：電子級(jí)高純過氧化氫；ICPMS；痕量金屬雜質(zhì)；膜去溶劑化進(jìn)樣 萊伯泰科Aridus II膜去溶霧化系統(tǒng)

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