摘要： 用ZOb光譜法測定電子級高純鹽酸中的痕量金屬雜質(zhì)需將樣片進(jìn)行富集處理，這不但耗費時間而且增加了樣品的污染機(jī)會如果樣品不富集ZOb光譜的檢出限又無法滿足電子級高純鹽酸的測定要求用OWKyO膜去溶進(jìn)樣器，高純鹽酸不需任何處理可直接進(jìn)樣，進(jìn)樣時高純鹽酸基本不在膜去溶內(nèi)揮發(fā)掉難揮發(fā)的金屬雜質(zhì)進(jìn)入ZOblTQ進(jìn)行檢測因此可消除基本干擾，提高高純鹽酸分析的靈敏度同時膜去溶具有進(jìn)樣速度快，進(jìn)樣量少的有點，可節(jié)省測試時間，提GX率 萊伯泰科Aridus II膜去溶霧化系統(tǒng)