掃描電子顯微鏡 SU3500
光-電聯(lián)用顯微鏡法（CLEM）系統(tǒng)
發(fā)射掃描電子顯微鏡 ReguluS
場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡 HF-3300
掃描電子顯微鏡 AeroSurf 15
掃描電子顯微鏡 FlexSEM 1000
Hitachi的掃描電子顯微鏡SU3500 高畫質(zhì)的鎢燈絲掃描電鏡, 圖象質(zhì)量更進(jìn)一步。
通過高畫質(zhì)提升掃描電鏡的分析能力和操作性, 凝聚日立zuixianjin科技“獨(dú)具匠心”。
SU3500鎢燈絲掃描電鏡具有實(shí)現(xiàn)了“3 kV加速電壓7 nm分辨率”的全新電子光學(xué)系統(tǒng), 可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)立體成像的“實(shí)時(shí)立體觀察功能”＊1、以及更高檢測(cè)效率的 “UVD超高靈敏度可變壓力檢測(cè)器”＊1它為觀察和分析提出了嶄新的標(biāo)準(zhǔn)。
*1：
自選
特點(diǎn)
低加速電壓觀察時(shí)分辨率更高，可更好地觀察樣品最表面的細(xì)微形狀和更有效地降低樣品的損壞
全新設(shè)計(jì)的電子光學(xué)系統(tǒng)和信號(hào)處理技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速掃描和低噪音的觀察
和以前的常規(guī)掃描電子顯微鏡相比＊2自動(dòng)功能縮短＊3了大約11秒
具有在低真空時(shí)可以非常好地觀察樣品最表面的細(xì)微形狀的“UVD(超高靈敏度可變壓力探測(cè)器)”＊4
具有實(shí)現(xiàn)了實(shí)時(shí)立體成像的“實(shí)時(shí)立體觀察功能”＊4
*2：
和日立SEM S-3400N相比
*3：
根據(jù)觀察條件的不同，時(shí)間會(huì)有變動(dòng)
*4：
自選
規(guī)格
| 項(xiàng)目 | 描述 | |
|---|---|---|
| 二次電子分辨率 | 3.0 nm(加速電壓=30 kV，WD=5 mm高真空模式) 7.0 nm(加速電壓=3 kV，WD=5 mm高真空模式) | |
| 背散射電子分辨率 | 4.0 nm(加速電壓=30 kV，WD=5 mm低真空模式) 10.0 nm(加速電壓=5 kV，WD=5 mm高真空模式) | |
| 放大倍率 | 5 - 300,000倍(底片倍率＊5） 7 - 800,000倍(顯示器顯示倍率＊6） | |
| 加速電壓 | 0.3～30kV | |
| 可變壓力范圍 | 6～650Pa | |
| 最大樣品尺寸 | 直徑 200 mm | |
| 樣品臺(tái) | X | 0～100mm |
| Y | 0～50mm | |
| Z | 5～65mm | |
| R | 360° | |
| T | -20～90° | |
| 可觀察區(qū)域 | 直徑 130 mm(旋轉(zhuǎn)并用) | |
| 最大樣品高度 | 80mm（WD＝10mm） | |
| 馬達(dá)臺(tái) | 5軸標(biāo)配 | |
| 電子光學(xué)系統(tǒng) | 電子槍 | 預(yù)對(duì)中的鎢燈絲 |
| 物鏡光闌 | 4孔可動(dòng)光闌 | |
| 探檢測(cè)器 | 埃弗哈特 索恩利 二次電子探測(cè)器 高靈敏度半導(dǎo)體背散射電子檢測(cè)器 | |
| EDX分析 WD | 10 mm(取出角35°) | |
| 圖像顯示 | 操作系統(tǒng) | Windows?7(有更改，恕不另行通知) |
| 圖像顯示模式 | 全屏模式(1,280 × 960 像素) 小屏模式(800 × 600 像素) 雙圖像顯示(800 × 600 像素) 四屏幕顯示(640 × 480像素) 信號(hào)混合模式 | |
| 排氣系統(tǒng) | 操作 | 全自動(dòng)排氣 |
| 渦輪分子泵 | 261升/秒 × 1 | |
| 機(jī)械泵 | 135 L/min.(162 L/min.，60Hz) × 1 | |
*5：
以127 mm × 95 mm(圖像尺寸4" × 5")的顯示尺寸規(guī)定倍率
*6：
以345 mm × 259 mm(像素1,280 × 960)的顯示尺寸規(guī)定倍率
觀察例
試料：樹脂填料(玻璃纖維)
加速電壓：1 kV
放大率：×1,000
試料：二氧化鈦顆粒
加速電壓：3 kV
放大倍率：×15,000 樣品未作導(dǎo)電性處理
樣品提供：由東北大學(xué) 垣花 眞人 様
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S-4800型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡（簡稱S-4800）為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場(chǎng)，物鏡為半浸沒式。在高加速電壓（15kV）下，S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm，這是目前半浸沒式冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡所能達(dá)到的最高水平。該電鏡在低加速電壓（1kV）下的二次電子圖像分辨率為2nm，這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠贰-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場(chǎng)電鏡SU8000系列高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm，并且在探測(cè)器設(shè)計(jì)上有新的突破，配置了Lower、Up-per和Top三個(gè)Everhart-Thornley型探測(cè)器，可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號(hào)，實(shí)現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測(cè)；結(jié)合選配的STEM探測(cè)器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌，新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了最優(yōu)化處理，使得著陸電壓在1KV時(shí)分辨率較前代機(jī)型提高了約20％。另外，最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場(chǎng)電子槍可將樣品的細(xì)節(jié)放大，并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外，為了能更好的應(yīng)對(duì)不同樣品的測(cè)試和保持并發(fā)揮出高性能，還對(duì)用戶輔助工能進(jìn)行了強(qiáng)化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能，多功能，多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計(jì)還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制，簡單化，從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像，除此意外，如果配備能譜分析系統(tǒng)，在進(jìn)行獲得樣品表面像的時(shí)候，還可以對(duì)樣品的某個(gè)定點(diǎn)位置進(jìn)行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例，進(jìn)行擬合處理，可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品，配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制，通過簡單的操作即可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集?？捎糜阡撹F等工業(yè)材料，汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外，SE系列包括4種型號(hào)（兩種類型，兩個(gè)等級(jí)），滿足眾多領(lǐng)域的測(cè)試需求。用戶可以根據(jù)實(shí)際用途（如微觀結(jié)構(gòu)控制：用于改善電子元件、半導(dǎo)體等材料的功能和性能；異物、缺陷分析：用于提高產(chǎn)品品質(zhì)）選擇適合的產(chǎn)品。
德國Zeiss 場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ，ZLGemini鏡筒，超高的束流穩(wěn)定性，超高的束流穩(wěn)定性，zhuo越的低電壓性能，In Lens 探測(cè)器，磁性材料高分辨觀察，ding級(jí)X射線分析設(shè)計(jì)，便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì)，超大空間，多接口，升級(jí)靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM，利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（Z小線寬為10nm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。
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