掃描電子顯微鏡-量子超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SEM5000X
掃描電子顯微鏡-量子場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SEM4000Pro
掃描電子顯微鏡-量子高速掃描電子顯微鏡 HEM6000
掃描電子顯微鏡 SU3500
掃描電子顯微鏡 S-3700N
FE-1050場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡,國(guó)內(nèi)首 款領(lǐng)勢(shì)旗艦機(jī)型。
在新一代電子光學(xué)鏡筒的加持下,展現(xiàn)低電壓、高分辨的卓 越性能。
27個(gè)端口拓展、大艙室,輕松應(yīng)對(duì)各類成像、分析需求。
極簡(jiǎn)化操作、自動(dòng)化交互、智能化特征識(shí)別統(tǒng)計(jì),成倍提高工作效率。
終身售后保障,7*24售后響應(yīng)。
以“質(zhì)”為先,以“優(yōu)”為本,助力微觀世界的探索與發(fā)現(xiàn)。

貼近用戶設(shè)計(jì)的系統(tǒng)交互操作,最 大簡(jiǎn)化系統(tǒng)操作,即使沒(méi)有
電鏡使用經(jīng)驗(yàn)的用戶也可輕松上手。軟硬件結(jié)合的智能化操作
流程能夠真正將用戶從繁瑣的重復(fù)操作中解放出來(lái)。

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S-4800型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(簡(jiǎn)稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場(chǎng),物鏡為半浸沒(méi)式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒(méi)式冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡所能達(dá)到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠?。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場(chǎng)電鏡SU8000系列高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測(cè)器設(shè)計(jì)上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個(gè)Everhart-Thornley型探測(cè)器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號(hào),實(shí)現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測(cè);結(jié)合選配的STEM探測(cè)器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時(shí)分辨率較前代機(jī)型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場(chǎng)電子槍可將樣品的細(xì)節(jié)放大,并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬(wàn)倍提高到了800萬(wàn)倍。除此之外,為了能更好的應(yīng)對(duì)不同樣品的測(cè)試和保持并發(fā)揮出高性能,還對(duì)用戶輔助工能進(jìn)行了強(qiáng)化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計(jì)還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡(jiǎn)單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進(jìn)行獲得樣品表面像的時(shí)候,還可以對(duì)樣品的某個(gè)定點(diǎn)位置進(jìn)行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進(jìn)行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過(guò)簡(jiǎn)單的操作即可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集??捎糜阡撹F等工業(yè)材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(hào)(兩種類型,兩個(gè)等級(jí)),滿足眾多領(lǐng)域的測(cè)試需求。用戶可以根據(jù)實(shí)際用途(如微觀結(jié)構(gòu)控制:用于改善電子元件、半導(dǎo)體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產(chǎn)品品質(zhì))選擇適合的產(chǎn)品。
德國(guó)Zeiss 場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測(cè)器,磁性材料高分辨觀察,ding級(jí)X射線分析設(shè)計(jì),便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì),超大空間,多接口,升級(jí)靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。