我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300...

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在蕞小的占位面積上結(jié)合了先進的對準功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本，提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術(shù)。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選...

納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱，可在最小的占位面積上提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術(shù)，并具有最高的產(chǎn)能，先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間...

光刻機Track系統(tǒng)通過集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對準和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動化功能，完善了EVG光刻機產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機Track系統(tǒng)基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學...

多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統(tǒng)可以支持多種相關(guān)的UV工藝:SmartNIL，晶圓級光學(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個靈活的工具中

長達 150 毫米的自動化全場紫外納米壓印解決方案，采用 EVG 專有的 SmartNIL 技術(shù)。

美國 Filmetrics 公司生產(chǎn)的薄膜厚度測量儀測量精度達到埃級的分辯率，測量迅速，操作簡單，界面友好，是目前市場上zui具性價比的薄膜厚度測量設(shè)備。設(shè)備光譜測量范圍從近紅外到紫外線，波長范圍從2...